[发明专利]表膜构件框架和使用该表膜构件框架的表膜构件在审
| 申请号： | 201711408496.6 | 申请日： | 2017-12-22 |
| 公开（公告）号： | CN108227369A | 公开（公告）日： | 2018-06-29 |
| 发明（设计）人： | 西村晃范 | 申请（专利权）人： | 信越化学工业株式会社 |
| 主分类号： | G03F1/64 | 分类号： | G03F1/64 |
| 代理公司： | 北京市隆安律师事务所 11323 | 代理人： | 权鲜枝;侯剑英 |
| 地址： | 日本国*** | 国省代码： | 日本;JP |
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| 摘要： | |||
| 搜索关键词： | 表膜 构件框架 中空部 直线部 角部 多边形框 构件变形 优选 连通 表现 | ||
1.一种表膜构件框架，为多边形框状，其特征在于，
在该表膜构件框架的角部内部形成有中空部。
2.根据权利要求1所述的表膜构件框架，其特征在于，
在上述表膜构件框架的直线部内部形成有中空部。
3.根据权利要求2所述的表膜构件框架，其特征在于，
形成在上述表膜构件框架的角部内部的中空部和形成在直线部内部的中空部是连通的。
4.根据权利要求2或3所述的表膜构件框架，其特征在于，
形成在上述表膜构件框架的角部内部的中空部的截面积大于形成在直线部内部的中空部的截面积。
5.一种表膜构件框架，为在内部形成有中空部的形状，其特征在于，
具有从该中空部至表膜构件框架表面的贯通孔。
6.根据权利要求1至5中的任意一项所述的表膜构件框架，其特征在于，
上述表膜构件框架是将两个多边形框状的构件接合而构成的，上述中空部是由设于至少一方上述多边形框状的构件的接合面的槽形成的。
7.根据权利要求6所述的表膜构件框架，其特征在于，
上述两个多边形框状的构件是通过固相接合而接合的。
8.一种表膜构件框架，为多边形框状，其特征在于，
该表膜构件框架的角部处的截面二次矩小于直线部处的截面二次矩。
9.根据权利要求8所述的表膜构件框架，其特征在于，
上述表膜构件框架的角部处的截面二次矩相对于直线部处的截面二次矩为85％以上且小于100％的大小。
10.一种表膜构件，其特征在于，
是使用权利要求1至9中的任意一项所述的表膜构件框架构成的。
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G03F 图纹面的照相制版工艺，例如，印刷工艺、半导体器件的加工工艺；其所用材料；其所用原版；其所用专用设备
G03F1-00 用于图纹面的照相制版的原版，例如掩膜，光掩膜；其所用空白掩膜或其所用薄膜；其专门适用于此的容器；其制备
G03F1-20 .用于通过带电粒子束(CPB)辐照成像的掩膜或空白掩膜，例如通过电子束；其制备
G03F1-22 .用于通过100nm或更短波长辐照成像的掩膜或空白掩膜，例如 X射线掩膜、深紫外
G03F1-26 .相移掩膜[PSM]；PSM空白；其制备
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