[发明专利]一种多孔质气体静压回转平台

说明书

本发明公开了一种多孔质气体静压回转平台，包括回转体、径向轴承、上止推轴承部件和下止推轴承部件，径向轴承采用全多孔质气体静压径向轴承，上、下止推轴承部件均采用局部多孔质气体静压止推轴承结构；上、下止推轴承部件通过均布的连接螺纹与径向轴承相连，并且通过局部多孔质气体止推轴承和回转体形成稳定的气膜间隙。全多孔质静压径向轴承位于回转体的内部，保证回转体的零摩擦旋转。本发明结合了全多孔质气体静压径向轴承和局部多孔质气体止推轴承两者优势，多孔质材料孔隙均匀、渗透率一致，由多孔质气体静压轴承制成的气浮回转平台具有高回转精度、高承载能力、高刚度和良好的稳定性等优点。

技术领域

本发明涉及一种气体静压精密转台，尤其涉及一种多孔质气体静压回转平台。

背景技术

气体静压精密转台广泛应用于航空、航天、精密机械、机械制造等行业中，是保障机械加工及检测精度的重要基础元部件，它的精度直接影响制造过程中工件的特征尺寸精度以及制造后元件的检测精度。多孔质节流器较其他节流方式有着承载能力和刚度高，动态特性及阻尼性能好的巨大优势，气体作为润滑剂形成的气膜具有均化效应，可以补偿因制造误差带来的回转误差，而且气体来源广，无污染。

发明内容

针对现有技术，本发明提供一种多孔质气体静压回转平台，结合了全多孔质静压径向轴承和局部多孔质止推轴承两者优势，由多孔质气体静压轴承制成的气浮回转平台具有高回转精度、高承载能力、高刚度和良好的稳定性等优点。

为了解决上述技术问题，本发明提出的一种多孔质气体静压回转平台，包括回转体、径向轴承、上止推轴承部件和下止推轴承部件，所述径向轴承设置在所述回转体内，所述径向轴承的上方同轴的固定有上止推轴承部件，所述径向轴承的下方同轴的固定有下止推轴承部件；所述径向轴承为全多孔质静压径向轴承，所述上止推轴承部件和下止推轴承部件均采用局部多孔质静压止推轴承结构；所述全多孔质静压径向轴承包括中心通气环，所述中心通气环上套装有多孔质环，所述多孔质环的两端均设有外环，所述中心通气环设有第一中心通孔和与所述第一中心通孔贯通的径向通孔；所述中心通气环的外回转面上设有一圈环形槽，从而在所述多孔质环与所述中心通气环之间形成了一与所述中心通孔贯通的第一环形气室；所述上止推轴承部件包括同轴固定的上止推轴承基体和上端盖板，所述上止推轴承基体设有第二中心通孔，所述上止推轴承基体的底面均匀的设置有多个第一阶梯通孔，所述上端盖板上在与所述上止推轴承基体接触的一端设有第一环形凹槽，所述上端盖板上设有第一通孔，多个第一阶梯通孔和第一通孔均与该第一环形凹槽贯通，所述第一通孔自所述上端盖板的外回转面连接至所述第一中心通孔，从而在所述上端盖板与所述上止推轴承基体之间形成了同时与所述第一通孔和多个第一阶梯通孔贯通的第二环形气室；每个第一阶梯通孔的沉孔内均设有第一局部多孔质节流器；所述下止推轴承部件包括同轴固定的下止推轴承基体和下端盖板，所述下止推轴承基体设有第三中心通孔，所述下止推轴承基体的顶面均匀的设置有多个第二阶梯通孔，所述下端盖板上在与所述下止推轴承基体接触的面上设有第二环形凹槽，所述下端盖板上设有第二通孔，多个第二阶梯通孔和第二通孔均与该第二环形凹槽贯通，所述第二通孔自所述下端盖板的外回转面连接至所述第一中心通孔，从而在所述下端盖板与所述下止推轴承基体之间形成了同时与所述第二通孔和多个第二阶梯通孔贯通的第三环形气室；每个第二阶梯通孔的沉孔内均设有第二局部多孔质节流器；所述第二局部多孔质节流器的规格尺寸大于所述第一局部多孔质节流器的规格尺寸；贯穿于所述下止推轴承基体和下端盖板的轴向设有两个通孔，该两个通孔的中心距等于所述外环的外径；所述下端盖板的底面设有一径向排气槽，所述径向排气槽与所述两个通孔贯通。

进一步讲，本发明多孔质气体静压回转平台，其中，位于所述多孔质环下端的外环的底部设有外倒角，所述回转体的底部设有内倒角，所述外倒角与所述内倒角之间形成一环形槽，两个通孔的顶部与该环形槽贯通。

本发明中，自所述第一通孔依次经过所述第二中心通孔和所述第一中心通孔后至所述径向通孔及自所述第二通孔依次经过所述第三中心通孔和所述第一中心通孔后至所述径向通孔形成了向第一环形气室的供气通道。