[发明专利]指纹辨识装置

权利要求书

1.一种指纹辨识装置，其特征在于，包括：

光源，用以发射出第一光线，所述第一光线具有第一波长λ1；

光色转换层，用以将所述第一光线转换成第二光线，所述第二光线具有不同于所述第一波长λ1的第二波长λ2；

光侦测器，用以侦测指纹所反射的所述第二光线；以及

滤光片，设置于所述光色转换层与所述光侦测器之间，用以实质上滤除所述第一光线，并实质上允许所述第二光线通过；

其中，所述滤光片的一侧接触所述光侦测器，所述滤光片的另一侧接触所述光色转换层。

2.如权利要求1的指纹辨识装置，其中所述光源位于所述光色转换层的下方。

3.如权利要求1的指纹辨识装置，其中所述光源位于所述光色转换层的侧方。

4.如权利要求1的指纹辨识装置，其中所述光源环绕所述光侦测器并定义出中央开口部，所述光侦测器设置于所述中央开口部中。

5.如权利要求4的指纹辨识装置，其中所述光源为电致发光片。

6.如权利要求1的指纹辨识装置，其中所述光源为单色光源。

7.如权利要求1的指纹辨识装置，其中所述光色转换层包括介质和散布于所述介质内的光色转换粒子，所述光色转换粒子由量子点材料、无机荧光粉材料、有机荧光粉材料和磷光粉材料其中至少一者形成。

8.如权利要求1的指纹辨识装置，其中所述光色转换层包括介质和散布于所述介质内的光色转换粒子，所述光色转换粒子的粒径小于所述第二波长λ2。

9.如权利要求8的指纹辨识装置，其中所述粒径小于等于10nm。

10.如权利要求1的指纹辨识装置，其中λ2-λ1≥20nm。

11.如权利要求1的指纹辨识装置，其中所述滤光片对于所述第一波长λ1具有一第一穿透率R1，所述滤光片对于所述第二波长λ2具有一第二穿透率R2，R2-R1＞50％。

12.一种指纹辨识装置，其特征在于，包括：

多个光源，用以发射出第一光线，所述第一光线具有第一波长λ1；

光色转换层，用以将所述第一光线转换成第二光线，所述第二光线具有不同于所述第一波长λ1的第二波长λ2；

多个光侦测器，用以侦测指纹所反射的所述第二光线；以及

滤光片，设置于所述光色转换层与所述光侦测器之间，用以实质上滤除所述第一光线，并实质上允许所述第二光线通过；

其中，该些光源和该些光侦测器设置在所述指纹辨识装置的基板上，该些光源和该些光侦测器分别排列成行，且该些光源的所述行与该些光侦测器的所述行交替设置；以及

其中所述滤光片对于所述第一波长λ1具有一第一穿透率R1，所述滤光片对于所述第二波长λ2具有一第二穿透率R2，R2-R1＞50％。

13.一种指纹辨识装置，其特征在于，包括：

多个光源，用以发射出第一光线，所述第一光线具有第一波长λ1；

光色转换层，用以将所述第一光线转换成第二光线，所述第二光线具有不同于所述第一波长λ1的第二波长λ2；

多个光侦测器，用以侦测指纹所反射的所述第二光线；以及

滤光片，设置于所述光色转换层与所述光侦测器之间，用以实质上滤除所述第一光线，并实质上允许所述第二光线通过；

其中，该些光源和该些光侦测器设置在所述指纹辨识装置的基板上，该些光侦测器排列成矩阵并定义出所述基板的侦测区，该些光源在所述侦测区外排列成行；以及

其中所述滤光片对于所述第一波长λ1具有一第一穿透率R1，所述滤光片对于所述第二波长λ2具有一第二穿透率R2，R2-R1＞50％。

14.一种指纹辨识装置，其特征在于，包括：

光源，用以发射出第一光线，所述第一光线具有第一波长λ1；

光色转换层，用以将所述第一光线转换成第二光线，所述第二光线具有不同于所述第一波长λ1的第二波长λ2；

光侦测器，用以侦测指纹所反射的所述第二光线；

滤光片，设置于所述光色转换层与所述光侦测器之间，用以实质上滤除所述第一光线，并实质上允许所述第二光线通过；

透镜，位于所述光侦测器与所述滤光片之间，所述透镜用以汇聚反射后的所述第二光线；

基板；以及

框架，所述框架连接所述光色转换层与所述基板以定义出容置空间，所述光源、所述光侦测器、所述滤光片、及所述透镜设置于所述容置空间内，且所述滤光片与所述光色转换层之间具有间隔；

其中所述滤光片对于所述第一波长λ1具有一第一穿透率R1，所述滤光片对于所述第二波长λ2具有一第二穿透率R2，R2-R1＞50％。