[发明专利]一种基于不规则源材的表面梯度薄膜制备装置

权利要求书

1.一种基于不规则源材的表面梯度薄膜制备装置，其特征在于：包括真空腔室以及设置在真空腔室内的基质、用于遮蔽部分下方扩散上来的离散态源材的可移动遮板和蒸发源结构，所述基质位于所述可移动遮板的上方且与蒸发源结构上下正对布置，所述可移动遮板的中部设有通孔，所述可移动遮板的左右两端分别与链带连接，所述链带绕过滚轴与步进电机的电机轴连接，所述滚轴前后安装在真空腔室内；

所述蒸发源结构位于所述可移动遮板的下方，所述蒸发源结构包括坩埚、源材和用于源材蒸发的电子束发射器，所述源材为颗粒突起状且放置在坩埚内，所述电子束发射器位于所述坩埚的下方；

所述基质的顶部上设有用于基质上的镀膜进行退火晶化的加

热装置。

2.如权利要求1所述的一种基于不规则源材的表面梯度薄膜制备装

置，其特征在于：所述可移动遮板上的通孔为圆形孔。

3.如权利要求1或2所述的一种基于不规则源材的表面梯度薄膜制备装置，其特征在于：所述蒸发源结构设置有三个，三个蒸发源结构呈正三角形布置。

4.如权利要求1或2所述的一种基于不规则源材的表面梯度薄膜制备装置，其特征在于：所述蒸发源结构设置有两个，两个蒸发源结构并排布置。