[发明专利]气体供给装置及其制造方法以及等离子体处理装置有效
| 申请号： | 201711417582.3 | 申请日： | 2017-12-25 |
| 公开（公告）号： | CN108242381B | 公开（公告）日： | 2020-01-03 |
| 发明（设计）人： | 佐佐木芳彦;南雅人 | 申请（专利权）人： | 东京毅力科创株式会社 |
| 主分类号： | H01J37/32 | 分类号： | H01J37/32;H01L21/67 |
| 代理公司： | 11322 北京尚诚知识产权代理有限公司 | 代理人： | 龙淳 |
| 地址： | 日本*** | 国省代码： | 日本;JP |
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| 摘要： | |||
| 搜索关键词： | 气体排出口 气体供给装置 等离子体处理 喷镀材料 气体流路 内周面 角部 等离子体处理装置 电极部件 薄膜化 边界部 电极板 均匀化 喷镀膜 弯曲面 下表面 膜厚 弯折 上游 制造 | ||
1.一种气体供给装置，其特征在于，包括：
用于产生等离子体的电极部件；
在所述电极部件上以向该电极部件的一个面延伸的方式形成的多个气体流路；
与所述气体流路的下游端相连地形成，且孔径随着向所述一个面去而扩大的气体排出口；和
在所述气体排出口的表面由喷镀膜形成的保护膜，
在所述气体流路与所述气体排出口的边界，内周面向外侧弯折而形成角部，并且从与所述角部相比位于外侧的内周面的部位至所述电极部件的一个面一侧的表面形成为弯曲面，在沿所述气体流路的轴线的截面上，从所述角部至所述弯曲面的内端之间为直线部分，
至少所述弯曲面和所述直线部分由所述保护膜覆盖。
2.如权利要求1所述的气体供给装置，其特征在于：
连结所述角部和所述弯曲面的内端的直线与所述气体流路的轴线所成的角度θ1设定在45度～50度的范围。
3.一种气体供给装置的制造方法，该气体供给装置为权利要求1或2所述的气体供给装置，所述气体供给装置的制造方法的特征在于：
使向所述电极部件的形成有所述气体排出口的面吹附喷镀材料的喷镀部，在与所述气体流路的延伸方向正交的方向移动来形成喷镀膜。
4.一种等离子体处理装置，其特征在于，包括：
用于在内部产生等离子体的处理容器；
设置于所述处理容器内的用于载置基片的载置台；
向所述处理容器内供给等离子体处理用的处理气体的权利要求1或2所述的气体供给装置；
向所述载置台与电极部件之间供给高频电力的高频电源部；和
用于对处理容器内进行真空排气的排气机构。
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