[发明专利]一种基于联二萘酚衍生物Th有效

专利信息
申请号: 201711422251.9 申请日: 2017-12-25
公开(公告)号: CN108034166B 公开(公告)日: 2020-01-03
发明(设计)人: 王宏青;谭艳红;刘波;王榆元;伍徐孟 申请(专利权)人: 南华大学
主分类号: C08L27/06 分类号: C08L27/06;C08K13/02;C08K3/22;C08K5/378;C08K5/138;C08K5/521;C08J3/12;C07C41/16;C07C43/235;C07C37/055;C07C39/14;C07F5/00;C09K11/06
代理公司: 11315 北京国昊天诚知识产权代理有限公司 代理人: 吴家伟
地址: 421001 湖*** 国省代码: 湖南;43
权利要求书: 查看更多 说明书: 查看更多
摘要:
搜索关键词: 一种 基于 萘酚 衍生物 th base sup
【说明书】:

发明公开了一种基于联二萘酚衍生物Th4+荧光识别材料及其制备方法与应用。所述的制备方法包括以下步骤:制备中间产物(R)‑2,2'‑二甲氧基‑1,1'‑联萘甲醚,简称RDB;制备目标产物3,3”‑(羟基(苯基)亚甲基)‑二‑([1,1’‑联萘]‑2,2’‑二醇),简称RDB‑B;制备Th4+和3,3”‑(羟基(苯基)亚甲基)‑二‑([1,1’‑联萘]‑2,2’‑二醇)的络合物;制备基于联二萘酚衍生物Th4+荧光识别材料。本发明能合成一种高分子聚合材料,该材料可以重复利用,且不损坏其内部结构,解决了小分子荧光材料易脱落和不能重复使用问题。

技术领域

本发明属于化工技术领域,具体地说,涉及一种基于联二萘酚衍生物Th4+荧光识别材料及其制备方法与应用。

背景技术

钍是一种广泛分布在地壳上的放射性元素,它在核行业、航空航天、医疗卫生等工农业生产中具有广泛的用途。然而,钍的开采和使用过程中会产生大量的废弃物,这些废弃物具有毒和放射性,是严重危害健康的最危险的环境污染物之一。如不妥善处置,将会造成严重危害。研究表明,连续暴露于钍环境中可能增加人体发生肺,胰腺或骨癌的风险,并引起遗传物质的变化。因此建立简单方便的检测Th4+方法显得尤为重要。荧光分析方法由于操作简单、灵敏度高和准确度好而受到高度重视。

目前针对Th4+的荧光探针绝大部分是荧光小分子,但荧光小分子在应用中易脱落,不能回收重复利用,将造成二次污染。而高分子材料具有稳定好、可制成各种类型的器件,并且可重复使用。但通常的高分材料对具体的金属无特异性识别能力且由于水溶性的问题不利于水体系重金属离子的检测。因此将对金属离子具有特异识别和亲水性好的荧光有机小分子植入高分子材料中即可解决荧光有机小分子易脱落,不能回收重复利用的问题,又能解决高分子材料不利于检测水体中金属离子的问题。

因此制备对Th4+识别能力强的荧光高分子识别材料有重要的意义。

发明内容

有鉴于此,本发明针对上述的问题,提供了一种基于联二萘酚衍生物Th4+荧光识别材料及其制备方法与应用。

为了解决上述技术问题,本发明公开了一种基于联二萘酚衍生物Th4+荧光识别材料的制备方法,包括以下步骤:

步骤1、制备中间产物(R)-2,2'-二甲氧基-1,1'-联萘甲醚,简称RDB:

在0℃条件下,将NaH的无水四氢呋喃和无水N,N'二甲基甲酰胺的混合溶液滴加到R-联二萘酚的无水四氢呋喃溶液中;滴加完毕后,在室温下反应0.5-1.5h,然后将氯甲基甲醚滴加到体系中,在室温下反应3-5h后,用水淬灭反应;反应后的混合物用乙酸乙酯萃取,有机层用水和饱和的NaCl 溶液进行洗涤及无水MgSO4干燥,减压蒸馏除去溶剂;所得固体用无水甲醇 (MeOH)进行重结晶,得到白色固体即(R)-2,2'-二甲氧基-1,1'-联萘甲醚,简称RDB;

步骤2、制备目标产物3,3”-(羟基(苯基)亚甲基)-二-([1,1’- 联萘]-2,2’-二醇)),简称RDB-B:

下载完整专利技术内容需要扣除积分,VIP会员可以免费下载。

该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于南华大学,未经南华大学许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服

本文链接:http://www.vipzhuanli.com/pat/books/201711422251.9/2.html,转载请声明来源钻瓜专利网。

×

专利文献下载

说明:

1、专利原文基于中国国家知识产权局专利说明书;

2、支持发明专利 、实用新型专利、外观设计专利(升级中);

3、专利数据每周两次同步更新,支持Adobe PDF格式;

4、内容包括专利技术的结构示意图流程工艺图技术构造图

5、已全新升级为极速版,下载速度显著提升!欢迎使用!

请您登陆后,进行下载,点击【登陆】 【注册】

关于我们 寻求报道 投稿须知 广告合作 版权声明 网站地图 友情链接 企业标识 联系我们

钻瓜专利网在线咨询

周一至周五 9:00-18:00

咨询在线客服咨询在线客服
tel code back_top