[发明专利]一种明渠式紫外线消毒装置

说明书

技术领域

本发明涉及污水消毒处理技术领域，具体是一种明渠式紫外线消毒装置。

背景技术

消毒是污水再生处理的最后一道工艺，也是保障污水再生利用，公共卫生安全的最重要的一道屏障。目前，国内广泛采用氯作为消毒剂，但消毒副产物的存在对再生水的水质安全和生态系统构成了潜在的威胁。二氧化氯作为其替代产品，虽然可克服消毒副产物的问题，但其价格高，使用不便。紫外线消毒作为一种安全可靠且经济方便的消毒方式越来越受到重视，并被应用于城市污水、饮用水的消毒处理。

细菌受到紫外线照射后，紫外光谱的能量为细菌的重要组成部分核酸所吸收，使核酸的结构被破坏。波长为200～295nm的紫外线有杀菌能力，且波长为260nm的紫外线杀菌能力最强。紫外线的能量达到细菌致死量而又保持一定的照射时间时，细菌便大量死亡。紫外线光源为高压石英水银灯，杀菌设备主要有浸水式和水面式两种。前者将灯管置于水中，辐射能的利用率高，杀菌能力较好，但构造复杂；后者结构简单，但由于反光罩吸收紫外线以及光线散射，杀菌效果不如前者。紫外线消毒速度快，效率高，还能去除加氯法难以杀死的某些芽孢和病毒，不影响水的物理性质和化学成分，不增加水的臭和味，并且操作简单，便于管理，易于实现自动化。

紫外线消毒系统设计主要考虑水质、透射率、水量、峰值系数、杀灭率、照射强度、照射时间等因素。紫外线消毒系统的效果好坏与处理流量和水质密切相关，水量突然增大时，紫外线照射时间短，需要更强的辐射剂量。而且紫外线系统对出水SS值非常敏感，国外出水SS值大多在10mg/L以下，而国内出水SS值通常在20～30mg/L之间，相对来说就需要更强的辐射剂量。同时需要考虑水利条件对紫外线消毒系统的影响，理想水力条件是在流速方向上完全推流，而在横断面上完全混合，前者保证所有的流体微元在反应器内的停留时间相同，而后者保证流体微元的充分混合。实际反应器很难达到以上条件，造成流体微元接受紫外照射的不均一性，影响了消毒效果。

发明内容

本发明的目的是提供一种明渠式紫外线消毒装置，提高对紫外线的利用率，减小了处理废水流量突变对紫外线消毒效率的影响，通过对处理废水进行二次消毒，间接增加了照射时间，增强了杀毒效率。本发明实现发明目的采用如下技术方案：

一种明渠式紫外线消毒装置，包括挡流板，初次消毒渠，二次消毒渠，自动清洗装置，反射罩，紫外线强度传感器，水位传感器和控制模块；所述初次消毒渠内设置有光杯，紫外线灯泡和镜罩；所述二次消毒渠内设置有紫外线灯管和石英套管；所述自动清洗装置包括清洗液加注管道，密封清洗环，电机驱动装置和清洗环安装盘。

作为优选，所述挡流板竖直安装，挡流板上边缘高于初次消毒渠液面,挡流板下边缘与初次消毒渠底部留有空隙，二次消毒渠的深度小于初次消毒渠的深度。

作为优选，所述镜罩为凸透镜，所述紫外线灯泡安装于该凸透镜焦点处。

作为优选，所述石英套管一端开口，另一端闭口，所述紫外线灯管密封于所述石英套管中。

作为优选，所述自动清洗装置中清洗液加注管道和密封清洗环相连接，密封清洗环安装在清洗环安装盘中。

作为优选，所述反射罩为反光率强的材质制造而成，如抛光铝板。

作为优选，所述控制模块提供配给供电，同时兼具数据传输与报警功能。

本发明与现有技术相比，其有益效果体现在：

本发明中初次消毒渠利用凸透镜将散射的紫外光线集中成平行光，增大了发光强度，提高了紫外光的利用率，而且处理污水由下至上通过紫外线光墙，增长了紫外线灯的照射时间，经挡流板使处理废水充分混合。二次消毒渠有效的避免了处理废水流量对紫外线消毒效率的影响，同时对处理过的污水进行二次消毒，尽可能杀死更多的细菌，解决了紫外线剂量不够，杀灭不彻底，细菌复活的问题。

附图说明

图1是本发明的主视结构示意图。

图2是本发明的俯视结构示意图。

具体实施方式

以下通过具体实施例对本发明做进一步解释说明。

如图1所示，本发明提供一种明渠式紫外线消毒装置，包括挡流板1，初次消毒渠2，二次消毒渠3，自动清洗装置4，反射罩5，紫外线强度传感器6，水位传感器7和控制模块8；所述初次消毒渠2内设置有光杯2-1，紫外线灯泡2-2和镜罩2-3；所述二次消毒渠3内设置有紫外线灯管3-1和石英套管3-2；所述自动清洗装置4包括清洗液加注管道4-1，密封清洗环4-2，电机驱动装置4-3和清洗环安装盘4-4。