[发明专利]图像传感器及其形成方法在审

专利信息
申请号: 201711422876.5 申请日: 2017-12-25
公开(公告)号: CN107946336A 公开(公告)日: 2018-04-20
发明(设计)人: 孟俊生;李志伟;黄仁德;王欢 申请(专利权)人: 德淮半导体有限公司
主分类号: H01L27/146 分类号: H01L27/146
代理公司: 北京集佳知识产权代理有限公司11227 代理人: 徐文欣,吴敏
地址: 223302 江苏*** 国省代码: 江苏;32
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摘要:
搜索关键词: 图像传感器 及其 形成 方法
【权利要求书】:

1.一种图像传感器的形成方法,其特征在于,包括:

提供初始基底;

去除部分初始基底,形成基底,所述基底顶部具有若干第一开口,所述第一开口的顶部尺寸大于底部尺寸,且所述第一开口顶部所在的平面与第一开口的侧壁构成锐角;

在所述基底顶部以及第一开口内形成隔离层,所述隔离层充满第一开口;

在所述隔离层的顶部表面形成滤色镜和位于滤色镜表面的透镜。

2.如权利要求1所述的图像传感器的形成方法,其特征在于,所述基底的形成步骤包括:在所述初始基底表面形成第一掩膜层,所述第一掩膜层暴露出部分初始基底的表面;以所述第一掩膜层为掩膜,刻蚀所述初始基底,形成基底,所述基底顶部具有第一开口。

3.如权利要求2所述的图像传感器的形成方法,其特征在于,所述初始基底的材料包括硅;以所述第一掩膜层为掩膜,刻蚀所述初始基底的工艺包括:

湿法刻蚀工艺和干法刻蚀工艺中的一种或者两种组合。

4.如权利要求3所述的图像传感器的形成方法,其特征在于,所述湿法刻蚀工艺的参数包括:刻蚀剂包括四甲基氢氧化铵,所述刻蚀剂的质量分数为10%~30%。

5.如权利要求1所述的图像传感器的形成方法,其特征在于,所述第一开口的侧壁具有相对的第一侧壁和第二侧壁,所述第一侧壁和第二侧壁构成的夹角为:70.5度。

6.如权利要求1所述的图像传感器的形成方法,其特征在于,所述初始基底顶部表面的晶向为<100>;所述第一开口侧壁表面的晶向为<111>。

7.如权利要求1所述的图像传感器的形成方法,其特征在于,所述隔离层的材料包括二氧化硅;所述滤色镜包括:红色滤色镜、绿色滤色镜或者蓝色滤色镜,所述基底包括若干传感区,所述红色滤色镜绿色滤色镜和蓝色滤色镜分别位于不同的传感区内,且每一个传感区内具有一种颜色的滤色镜。

8.如权利要求1所述的图像传感器的形成方法,其特征在于,相邻滤色镜之间具有金属栅格;所述金属栅格的材料为金属。

9.如权利要求1所述的图像传感器的形成方法,其特征在于,所述基底包括若干传感区,所述传感区内具有若干第一开口,且若干第一开口底部的基底内具有光电二极管。

10.一种图形传感器,其特征在于,包括:

基底,所述基底的顶部具有第一开口,所述第一开口的顶部尺寸小于底部尺寸,且所述第一开口底部所在的平面与第一开口侧壁构成锐角;

位于所述基底顶部、以及第一开口内的隔离层,所述隔离层充满第一开口;

位于所述隔离层表面的滤色镜;

位于所述滤色镜表面的透镜。

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