[发明专利]单体、聚合物和光致抗蚀剂组合物

权利要求书

1.一种聚合物，包含有包含以下的重复单元：

碳脂环或杂脂环基，所述基团包含1)一个或多个酸不稳定环取代基和2)一个或多个任选被取代的醚或任选被取代的硫醚环取代基。

2.根据权利要求1所述的聚合物，其中所述重复单元包含碳脂环基。

3.根据权利要求1所述的聚合物，其中所述重复单元包含杂脂环基。

4.根据权利要求1或2所述的聚合物，其中1)所述酸不稳定环取代基是酯基，并且2)所述碳脂环或杂脂环基的碳环原子是所述酸不稳定酯基的季碳。

5.根据权利要求1到3中任一项所述的聚合物，其中所述碳脂环或杂脂环基包含一个或多个任选被取代的烷氧基环取代基。

6.根据权利要求1到5中任一项所述的聚合物，包含下式(I)或(I′)的结构：

其中在式(I)和(I′)中的每一个中：

X和Y独立地是C、O或S并且形成碳脂环族环或杂脂环族环；

R是非氢取代基；

R¹是任选被取代的醚或任选被取代的硫醚；

R²是非氢取代基；

m是0或更大的整数整数；

n是正整数；并且m和n的总和不超过所述碳脂环族环或杂脂环族环的可用价。

7.根据权利要求1到6中任一项所述的聚合物，包含下式(II)的结构：

其中在式(II)中：

R是非氢取代基；

R¹是任选被取代的醚或任选被取代的硫醚；

R²是非氢取代基；

m是0(其中不存在R²基团)或更大的整数整数；

n是正整数；并且m和n的总和不超过所述碳脂环族环或杂脂环族环的可用价。

8.根据权利要求1到7中任一项所述的聚合物，其中所述重复单元是聚合丙烯酸酯化合物。

9.一种光致抗蚀剂组合物，包含光敏性组分和根据权利要求1到8中任一项所述的聚合物。

10.根据权利要求9所述的光致抗蚀剂组合物，进一步包含第二不同聚合物。

11.一种加工光致抗蚀剂组合物的方法，包含：

在衬底上涂覆根据权利要求9或10所述的光致抗蚀剂组合物的层；

使所述光致抗蚀剂组合物层曝光于活化辐射；和

使所述曝光的光致抗蚀剂组合物显影，从而得到光致抗蚀剂浮雕图像。

12.根据权利要求11所述的方法，其中所述光致抗蚀剂组合物层被浸没式曝光。

13.一种单体，包含下式(I)或(I′)的结构：

其中在式(I)和(I′)中的每一个中：

X和Y独立地是C、O或S并且形成碳脂环族环或杂脂环族环；

R是非氢取代基；

R¹是任选被取代的醚或任选被取代的硫醚；

R²是非氢取代基；

m是0或更大的整数整数；

n是正整数；并且m和n的总和不超过所述碳脂环族环或杂脂环族环的可用价。

14.一种单体，包含下式(II)的结构：

其中在式(II)中：

R是非氢取代基；

R¹是任选被取代的醚或任选被取代的硫醚；

R²是非氢取代基；

m是0(其中不存在R²基团)或更大的整数整数；

n是正整数；并且m和n的总和不超过所述碳脂环族环或杂脂环族环的可用价。

15.根据权利要求13或14所述的单体，其中所述单体是丙烯酸酯化合物。