[发明专利]一种X射线强度准无损二维成像装置

说明书

本发明公开了一种X射线强度准无损二维成像装置，所述的成像装置适用于50eV~80keV的X射线，包括同轴心设置的可调光阑、辅助瞄准装置、X射线成像器件、支撑与调节机构、屏蔽筒与多重X射线成像板。经辅助瞄准装置对靶进行瞄准后，靶发出50eV~80keV的X射线，经X射线成像器件成像到多重X射线成像板上，通过对多重X射线成像板上的多重像进行数据提取、转换与叠加处理，即可还原强度准无损图像。本发明的成像装置能够实现50eV~80keV的X射线强度准无损二维成像，将获得的X光像的信息量提升0%~85%，具有广阔且重要应用前景。

技术领域

本发明属于X射线成像领域，具体涉及一种X射线强度准无损二维成像装置。

背景技术

在惯性约束聚变ICF中，X射线成像技术广泛用于监测激光-等离子体相互作用、X光烧蚀靶材以及微球靶内爆等过程中释放的各种瞬发辐射X射线强度的时间和空间分布状况，对于ICF实验研究具有重要意义。

目前对X光像进行接收的器件主要有X射线成像板、X光CCD和X射线胶片。由于相对X射线胶片而言，X射线成像板具有较高的信噪比和灵敏度；相对X光CCD而言，X射线成像板可以弯曲，因而X射线成像板的应用最为广泛。

而现有X光像接收器件存在着以下不足：由于高能X射线的强穿透性，例如对于SR型X射线成像板，40keV的X射线的透过率超过50%，因而在X光像接收器件上提取的高能X光像的信息大量缺失。

发明内容

本发明所要解决的技术问题是提供一种X射线强度准无损二维成像装置。

本发明的X射线强度准无损二维成像装置适用于50eV~80keV 的X射线，包括同轴心设置的可调光阑、辅助瞄准装置、X射线成像器件、支撑与调节机构、屏蔽筒和多重X射线成像板；

所述的支撑与调节机构为水平放置的圆筒，辅助瞄准装置卡在圆筒的靠前位置并面向靶，X射线成像器件位于辅助瞄准装置中心；所述的可调光阑为圆环形并位于辅助瞄准装置的前方，与支撑与调节机构的圆筒前端面配装；所述的支撑与调节机构通过位于圆筒后部的调节器调节辅助瞄准装置和X射线成像器件的光学指向；所述的屏蔽筒的前端与支撑与调节机构密封连接，后端与多重X射线成像板密封连接，屏蔽筒的中间部分从调节机构到多重X射线成像板之间圆滑过渡；

所述的成像装置的工作过程如下：

靶发出的可见光在可调光阑打开状态下，通过辅助瞄准装置和支撑与调节机构实现辅助X射线成像器件对靶的瞄准；靶发出的X射线在可调光阑关闭状态下，经过X射线成像器件成像到多重X射线成像板上；通过计算机对多重X射线成像板上的多重X光像进行数据提取、转换和叠加处理，获得强度准无损图像。

所述的靶为惯性约束聚变ICF使用的腔靶、球靶或平面靶中的一种。

所述的可调光阑在关闭状态下，限光孔径大于靶尺寸，并且小于X射线成像器件边界尺寸。

所述的辅助瞄准装置为双光路瞄准装置、透镜瞄准装置或多节限位瞄准装置中的一种。

所述的X射线成像器件为惯性约束聚变ICF中用于X射线成像的针孔及其阵列、狭缝及其阵列、异形孔及其阵列、KB镜或弯晶中的一种。

所述的支撑与调节机构在垂直于辅助瞄准装置的轴线的平面上进行基于平面的X轴和Y轴的平面位移，和基于平面的X轴和Y轴的翻转。

所述的屏蔽筒材料为铅，筒壁厚度大于5mm。

所述的多重X射线成像板的成像板数量大于等于1，并且小于等于8，成像板型号为MS、SR或TR中的一种。

所述的多重X射线成像板的成像板贴在一起，放置在X射线成像器件的成像位置上；所述的50eV~80keV的 X射线为能量为50eV~80keV的单能或混合X射线。