[发明专利]一种多通道集成滤光片的光隔离结构及其制造方法

权利要求书

1.一种多通道集成滤光片的光隔离结构，其特征在于，包括设置在基片表面上的黑铬金属膜层，以阻止光线通过，所述黑铬金属膜层分布于多通道集成滤光片通道间的空白区域；

还包括消光层，所述消光层由第一氧化铬膜层、第一二氧化硅膜层、第二氧化铬膜层、第二二氧化硅膜层组成，所述第一氧化铬膜层设置在所述黑铬金属膜层上，所述第一二氧化硅膜层设置在所述第一氧化铬膜层上，所述第二氧化铬膜层设置在所述第一二氧化硅膜层上，所述第二二氧化硅膜层设置在所述第二氧化铬膜层上。

2.根据权利要求1所述的一种多通道集成滤光片的光隔离结构，其特征在于，所述黑铬金属膜层的厚度为200-500纳米，所述第一氧化铬膜层的厚度为45-50纳米，所述第一二氧化硅膜层的厚度为200-220纳米，所述第二氧化铬膜层的厚度为120-140纳米，所述第二二氧化硅膜层的厚度为85-95纳米。

3.一种多通道集成滤光片的光隔离结构的制造方法，其特征在于，包括以下步骤：

S1、使用机械掩膜夹具夹持基片，以使基片上仅有需设置光隔离结构的表面露出；

S2、将机械掩膜夹具和基片一起放入镀膜工件载盘，再装入真空镀膜系统；

S3、在基片露出表面上镀制黑铬金属膜层；

S4、在黑铬金属膜层上镀制第一氧化铬膜层；

S5、在第一氧化铬膜层上镀制第一二氧化硅膜层；

S6、在第一二氧化硅膜层上镀制第二氧化铬膜层；

S7、在第二氧化铬膜层上镀制第二二氧化硅膜层即得光隔离结构。

4.根据权利要求3所述的一种多通道集成滤光片的光隔离结构的制造方法，其特征在于，所述基片选自玻璃、石英、蓝宝石、硫化锌、硒化锌光学材料中的一种。

5.根据权利要求3所述的一种多通道集成滤光片的光隔离结构的制造方法，其特征在于，所述黑铬金属膜层的厚度为200-500纳米，所述第一氧化铬膜层的厚度为45-50纳米，所述第一二氧化硅膜层的厚度为200-220纳米，所述第二氧化铬膜层的厚度为120-140纳米，所述第二二氧化硅膜层的厚度为85-95纳米。

6.根据权利要求5所述的一种多通道集成滤光片的光隔离结构的制造方法，其特征在于，所述第一氧化铬膜层的厚度为50纳米，所述第一二氧化硅膜层的厚度为200纳米，所述第二氧化铬膜层的厚度为130纳米，所述第二二氧化硅膜层的厚度为90纳米。

7.根据权利要求3所述的一种多通道集成滤光片的光隔离结构的制造方法，其特征在于，步骤S3至步骤S7中采用精度为1纳米的石英晶体振荡膜层厚度控制仪控制黑铬金属膜层、第一氧化铬膜层、第一二氧化硅膜层、第二氧化铬膜层、第二二氧化硅膜层的厚度。

8.根据权利要求3所述的一种多通道集成滤光片的光隔离结构的制造方法，其特征在于，步骤S4至步骤S7中采用氧气离子辅助镀膜工艺辅助镀制第一氧化铬膜层、第一二氧化硅膜层、第二氧化铬膜层、第二二氧化硅膜层。

9.根据权利要求3所述的一种多通道集成滤光片的光隔离结构的制造方法，其特征在于，步骤S3的实施温度为室温至100摄氏度，步骤S4-S7的实施温度为150摄氏度至300摄氏度。

10.根据权利要求3所述的一种多通道集成滤光片的光隔离结构的制造方法，其特征在于，步骤S3的实施真空压强不大于1x10^-3Pa，步骤S4-S7的实施真空压强不大于3x10^-2Pa。