[发明专利]辐射检查系统和辐射检查方法

权利要求书

1.一种辐射检查系统(100)，包括用于发射初始射束(N1)的辐射源和用于将所述初始射束(N1)调制为扫描射束的射束调制装置，其特征在于，所述射束调制装置包括设置于所述辐射源的射束出射侧的第一准直结构(114)和设置于所述第一准直结构(114)的射束出射侧的第二准直结构(130)，所述第一准直结构(114)包括第一准直口(1141)，所述第二准直结构(130)包括第二准直口(131)，所述第二准直结构(130)与所述第一准直结构(114)相对可动地设置以改变所述第一准直口(1141)和所述第二准直口(131)的相对位置，使所述射束调制装置在第一工作状态和第二工作状态之间切换，其中，在所述第一工作状态，所述射束调制装置将所述初始射束(N1)调制为扇形束(N2)，在所述第二工作状态，所述射束调制装置将所述初始射束(N1)调制为位置可变的笔形束(N3)。

2.根据权利要求1所述的辐射检查系统(100)，其特征在于，在所述第二工作状态，所述第二准直结构(130)与所述第一准直结构(114)可相对平移和/或可相对转动以改变所述第二准直口(131)与所述第一准直口(1141)的垂直于所述初始射束(N1)的出射方向的交叉位置，从而改变所述笔形束(N3)的位置。

3.根据权利要求1所述的射束调制装置(100)，其特征在于，所述第一准直结构(114)包括第一准直板；所述第二准直结构(130)包括第二准直板。

4.根据权利要求3所述的辐射检查系统(100)，其特征在于，所述第一准直板为第一准直平板，所述第二准直板为第二准直平板；或者，所述第一准直板为第一准直曲面板，所述第二准直板为第二准直曲面板。

5.根据权利要求3所述的辐射检查系统(100)，其特征在于，所述第一准直板平行于所述第二准直板。

6.根据权利要求1所述的辐射检查系统(100)，其特征在于，所述第一准直口(1141)为第一准直缝；所述第二准直口(131)为第二准直缝。

7.根据权利要求1所述的辐射检查系统(100)，其特征在于，所述第一准直缝和所述第二准直缝中至少一个为直线型准直缝。

8.根据权利要求7所述的辐射检查系统(100)，其特征在于，所述第二准直缝相对于所述第一准直缝倾斜设置或垂直设置。

9.根据权利要求1所述的辐射检查系统(100)，其特征在于，所述第一准直结构(114)静止，所述第二准直结构(130)可动地设置；或者，所述第一准直结构可动地设置，所述第二准直结构静止；或者，所述第一准直结构和所述第二准直结构均可动地设置。

10.根据权利要求1至9中任一项所述的辐射检查系统(100)，其特征在于，所述辐射源包括中子源(111)。

11.根据权利要求10所述的辐射检查系统(100)，其特征在于，所述中子源(111)包括光中子源。

12.根据权利要求10所述的辐射检查系统(100)，其特征在于，所述辐射检查系统(100)还包括中子调制罩，所述中子调制罩设置于所述中子源(111)外周，以对所述中子源(111)产生的中子进行调制。

13.根据权利要求12所述的辐射检查系统(100)，其特征在于，所述中子调制罩包括慢化层(112)，所述慢化层(112)设置于所述中子源(111)外周以慢化所述中子源(111)产生的中子。

14.根据权利要求13所述的辐射检查系统(100)，其特征在于，所述中子调制罩还包括屏蔽层(113)，所述屏蔽层(113)设置于所述慢化层(112)的外周，包括屏蔽慢化后的中子的屏蔽部和设置于所述射束出射侧的用于出射所述初始射束(N1)的中子出射口。

15.根据权利要求14所述的辐射检查系统(100)，其特征在于，所述屏蔽层(113)还用于屏蔽γ射线。

16.根据权利要求1至9中任一项所述的辐射检查系统(100)，其特征在于，所述辐射检查系统(100)还包括探测装置和控制装置，所述探测装置用于接收从所述扫描射束辐射的被检查物体(210)返回的光子(R)，所述控制装置与所述探测装置耦合以接收所述探测装置的探测信号并根据所述探测信号形成检查结果。