[发明专利]含硅树脂组合物、含硅树脂薄膜、二氧化硅薄膜、发光显示元件面板以及发光显示装置

权利要求书

1.一种含硅树脂组合物，其特征在于，含有：含硅树脂(A)、具有芯-壳体结构的量子点(B)和溶剂(S)，所述含硅树脂(A)选自聚硅氧烷树脂以及聚硅烷中的1种以上，所述溶剂(S)包含下式(S1)表示的乙酸环烷基酯：

【化学式1】

式(S1)中，R^s1是碳原子数1～3的烷基，p为1～6的整数，q为0～(p+1)的整数，

所述溶剂(S)的含量是以使含硅树脂组合物的固态成分浓度为1～50质量％的量。

2.如权利要求1所述的含硅树脂组合物，其特征在于，

所述含硅树脂(A)选自聚硅氧烷树脂以及聚硅烷中的1种以上，

所述聚硅氧烷树脂是对从下式(A1)表示的硅烷化合物选择的至少1种硅烷化合物进行水解缩合而得到的聚硅氧烷树脂，

R_4-nSi(OR’)_n…(A1)

在所述式(A1)中，R表示氢原子、碳原子数为1、2或3的烷基、芳基或者芳烷基，R’表示碳原子数为1、2或3的烷基或者苯基，

所述芳基、所述芳烷基和所述苯基具有或不具有取代基，所述取代基是羟基、甲氧基、乙氧基、丙氧基、甲基、乙基或丙基，n表示2～4的整数，在Si键合有多个R的情况下，该多个R相同或者不同,此外，Si键合的多个(OR’)基团相同或者不同。

3.如权利要求1所述的含硅树脂组合物，其特征在于，

所述壳体的材质是从ZnS以及ZnSe构成的组中选择的至少1种。

4.如权利要求1所述的含硅树脂组合物，其特征在于，

所述溶剂(S)中的式(S1)表示的乙酸环烷基酯的含量是30质量％以上100质量％以下。

5.如权利要求1所述的含硅树脂组合物，其特征在于，还包含固化剂(C)。

6.一种含硅树脂薄膜的制造方法，其特征在于，包含如下工序：

形成由权利要求1～5的任一项所述的含硅树脂组合物形成的涂膜；和

从所述涂膜除去溶剂(S)。

7.如权利要求6所述的含硅树脂薄膜的制造方法，其特征在于，所述含硅树脂薄膜的膜厚为2～300μm。

8.一种含硅树脂薄膜，利用权利要求6所述的含硅树脂薄膜的制造方法来制造，其特征在于，在包括含硅树脂(A)的基质中分散有量子点(B)，且所述含硅树脂薄膜的膜厚为2～300μm。

9.一种二氧化硅薄膜的制造方法，其特征在于，包含如下工序：

形成由权利要求1～5的任一项所述的含硅树脂组合物形成的涂膜；和

对所述涂膜进行烧制。

10.如权利要求9所述的二氧化硅薄膜的制造方法，其特征在于，所述二氧化硅薄膜的膜厚为2～300μm。

11.一种二氧化硅薄膜，利用权利要求9所述的二氧化硅薄膜的制造方法来制造，其特征在于，在包括二氧化硅的基质中分散有量子点(B)。

12.如权利要求11所述的二氧化硅薄膜，其特征在于，膜厚为2～300μm。

13.一种发光显示元件用的光学薄膜，其特征在于，包括权利要求8所述的含硅树脂薄膜或者权利要求11或12记载的二氧化硅薄膜。

14.一种层叠体，其特征在于，包含选自权利要求8所述的含硅树脂薄膜以及权利要求11或12所述的二氧化硅薄膜中的1种以上的薄膜。

15.如权利要求14所述的层叠体，其特征在于，所述含硅树脂薄膜以及所述二氧化硅薄膜中的2种的薄膜以分别相接的方式层叠。