[发明专利]一种中温无光釉及其制备方法在审

专利信息
申请号: 201711431647.X 申请日: 2017-12-26
公开(公告)号: CN108083851A 公开(公告)日: 2018-05-29
发明(设计)人: 彭宏;徐亮 申请(专利权)人: 湖南华联瓷业股份有限公司
主分类号: C04B41/86 分类号: C04B41/86;C03C8/00
代理公司: 北京风雅颂专利代理有限公司 11403 代理人: 曾志鹏
地址: 412200 湖南省*** 国省代码: 湖南;43
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摘要:
搜索关键词: 无光釉 釉浆 中温 骨炭 色剂 釉料 釉坯 煅烧 制备 球磨机 电解质 硅酸盐玻璃 金属氧化物 磷酸盐玻璃 五氧化二磷 煅烧氧化铝 煅烧氧化锌 滑石粉 二氧化硅 方解石粉 钾长石粉 溶解能力 湿法球磨 陶瓷产品 中温条件 不互溶 触变性 高领土 辊道窑 石英粉 质量份 备料 加水 目筛 烧成 无光 组份 引入
【权利要求书】:

1.一种中温无光釉,其特征在于,包括以下组份及各自重量份:钾长石粉20-30份,石英粉5-10份,方解石粉18-22份,煅烧滑石粉20-25份,煅烧氧化锌5-7份,煅烧骨炭粉3-5份,煅烧氧化铝7-10份,高领土2-5份,色剂1-5份。

2.如权利要求1所述的中温无光釉,其特征在于,所述色剂为钴黑,红棕和孔雀绿中的一种。

3.一种中温无光釉的制备方法,其特征在于,包括以下步骤:

1)按照各组份和各组份质量份备料,按照原料:高铝球石:水的质量比为1:2:0.6,湿法球磨,得到釉料;

2)釉料出球磨机后过120目筛,得到釉浆,加水和电解质分别调节釉浆的浓度和触变性;

3)取釉坯浸在釉浆中,干燥后釉坯入辊道窑烧成,最高温度为1250-1280℃,烧成周期7-7.5h,最终得到的釉坯釉层厚度为0.2-0.4mm。

4.如权利要求3所述的中温无光釉的制备方法,其特征在于,步骤1)所述釉料细度325目筛余0.1-0.2%。

5.如权利要求3或4所述的中温无光釉的制备方法,其特征在于,步骤1)所述高铝球石中大球石、中球石、小球石的质量比为2:5:3。

6.如权利要求3或4所述的中温无光釉的制备方法,其特征在于,步骤2)所述釉浆的浓度为30-60波美度。

7.如权利要求3或4所述的中温无光釉的制备方法,其特征在于,步骤2)所述电解质为氯化氨或三聚磷酸钠。

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