[发明专利]柔性量子点彩膜的制作方法

权利要求书

1.一种柔性量子点彩膜的制作方法，其特征在于，包括以下步骤：

提供母版，所述母版上设有多个图形化掩膜，多个所述图形化掩膜与所述母版构成第一沉积坑；

于所述第一沉积坑内沉积黑矩阵，所述黑矩阵露出于所述图形化掩膜，以使所述黑矩阵和多个所述图形化掩膜构成多个第二沉积坑；

于所述第二沉积坑内沉积彩膜，所述第二沉积坑内的彩膜的颜色为红色、绿色或蓝色，所述红色、绿色或蓝色的彩膜的数量至少为一个；且各所述彩膜的高度小于或等于所述黑矩阵的高度，以使各所述彩膜相互间隔开；

于各所述彩膜和所述黑矩阵上沉积水氧阻隔层；

于所述水氧阻隔层上沉积柔性衬底；

除去所述母版和所述图形化掩膜，各所述彩膜和所述黑矩阵围成与所述图形化掩膜形状匹配的第三沉积坑；

于所述第三沉积坑内沉积发光颜色与所述彩膜的颜色对应的量子点材料，形成量子点光转换层，即得柔性量子点彩膜。

2.如权利要求1所述的柔性量子点彩膜的制作方法，其特征在于，所述图形化掩膜与所述母版相接触的一表面的面积大于远离所述母版的另一表面的面积。

3.如权利要求2所述的柔性量子点彩膜的制作方法，其特征在于，所述图形化掩膜的纵截面形状为梯形。

4.如权利要求1所述的柔性量子点彩膜的制作方法，其特征在于，所述图形化掩膜的厚度为100nm～1000nm。

5.如权利要求1所述的柔性量子点彩膜的制作方法，其特征在于，所述黑矩阵的厚度为1500nm～4000nm。

6.如权利要求1所述的柔性量子点彩膜的制作方法，其特征在于，所述黑矩阵远离所述母版的一表面呈往外凸起的弧形。

7.如权利要求1所述的柔性量子点彩膜的制作方法，其特征在于，所述沉积黑矩阵的方法为湿法工艺。

8.如权利要求1所述的柔性量子点彩膜的制作方法，其特征在于，所述彩膜的厚度为1000nm～3500nm。

9.如权利要求1所述的柔性量子点彩膜的制作方法，其特征在于，所述彩膜靠近所述柔性衬底的一端大于远离所述柔性衬底的一端。

10.如权利要求1～9任一项所述的柔性量子点彩膜的制作方法，其特征在于，所述量子点材料为II-VI族光致发光量子点材料、III-V族光致发光量子点材料、IV-VI族光致发光量子点材料中的一种或多种。