[发明专利]用于去除金属的多孔PTFE膜有效
申请号: | 201711439370.5 | 申请日: | 2017-12-27 |
公开(公告)号: | CN108246126B | 公开(公告)日: | 2020-12-08 |
发明(设计)人: | H·艾特-哈杜;K·A-H·H·阿梅尔 | 申请(专利权)人: | 帕尔公司 |
主分类号: | B01D71/36 | 分类号: | B01D71/36;B01D69/02;B01D67/00;C08J7/04;C08J7/12;C08L27/18 |
代理公司: | 中国贸促会专利商标事务所有限公司 11038 | 代理人: | 杨立芳 |
地址: | 美国*** | 国省代码: | 暂无信息 |
权利要求书: | 查看更多 | 说明书: | 查看更多 |
摘要: | |||
搜索关键词: | 用于 去除 金属 多孔 ptfe | ||
1.多孔膜,其包含多孔聚四氟乙烯(PTFE)基材和包含式(I)的共聚物或所述共聚物的盐的涂层:
H-[-O-CH(Rf)-CH2-]m-[-O-CHM-CH2-]n-[-O-CHL-CH2-]s-OH (I),
其中Rf是全氟取代的烷基或全氟取代的烷基氧基烷基;
M是式-CH2-O-(CH2)3-S-(CHP)t-Y的基团,其中P是氢或-CH2COOH,和Y选自COOH,SO3H,苯基-SO3H,NHR,NR3+,吡啶基,嘧啶基,吡咯基,吡唑基,三唑基,吡嗪基,四唑脒基和胍基,其中R选自氢,烷基,芳基和芳基烷基及其组合;
L是式-CH2-O-CH2-CH=CH2的基团;
m和n各自独立地为10至1000;s的值使得比例n:s在0.3:0.7至0.9:0.1的范围内;和t是0或1;
其中所述共聚物任选地进一步包括一个或多个下式的重复单元:
-O-CHL'-CH2-,其中L'具有式-CH2-O-CH2-CH2-CH2-Q,其中Q是带正电荷的基团。
2.权利要求1的多孔膜,其中Y选自COOH,SO3H,苯基-SO3H,NHR和NR3+,其中R是氢或烷基。
3.权利要求1或2的多孔膜,其中Rf为CpF2p+1-(CH2)q(OCH2)r,其中p为1至12,q为0至3,和r为0至2。
4.权利要求1或2的多孔膜,其中所述比例n:s为0.3:0.7。
5.权利要求1或2的多孔膜,其中所述比例n:s为1:1。
6.权利要求1或2的多孔膜,其中所述比例n:s是0.9:0.1。
7.权利要求3的多孔膜,其中Rf是C6F13(CH2)2OCH2-或C6F13CH2-。
8.权利要求1或2的多孔膜,其中所述式(I)的共聚物是嵌段共聚物。
9.权利要求1或2的多孔膜,其中所述式(I)的共聚物是无规共聚物。
10.权利要求1或2的多孔膜,其中所述共聚物是交联的。
该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于帕尔公司,未经帕尔公司许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服】
本文链接:http://www.vipzhuanli.com/pat/books/201711439370.5/1.html,转载请声明来源钻瓜专利网。