[发明专利]用于去除金属的多孔PTFE膜有效

专利信息
申请号: 201711439370.5 申请日: 2017-12-27
公开(公告)号: CN108246126B 公开(公告)日: 2020-12-08
发明(设计)人: H·艾特-哈杜;K·A-H·H·阿梅尔 申请(专利权)人: 帕尔公司
主分类号: B01D71/36 分类号: B01D71/36;B01D69/02;B01D67/00;C08J7/04;C08J7/12;C08L27/18
代理公司: 中国贸促会专利商标事务所有限公司 11038 代理人: 杨立芳
地址: 美国*** 国省代码: 暂无信息
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摘要:
搜索关键词: 用于 去除 金属 多孔 ptfe
【权利要求书】:

1.多孔膜,其包含多孔聚四氟乙烯(PTFE)基材和包含式(I)的共聚物或所述共聚物的盐的涂层:

H-[-O-CH(Rf)-CH2-]m-[-O-CHM-CH2-]n-[-O-CHL-CH2-]s-OH (I),

其中Rf是全氟取代的烷基或全氟取代的烷基氧基烷基;

M是式-CH2-O-(CH2)3-S-(CHP)t-Y的基团,其中P是氢或-CH2COOH,和Y选自COOH,SO3H,苯基-SO3H,NHR,NR3+,吡啶基,嘧啶基,吡咯基,吡唑基,三唑基,吡嗪基,四唑脒基和胍基,其中R选自氢,烷基,芳基和芳基烷基及其组合;

L是式-CH2-O-CH2-CH=CH2的基团;

m和n各自独立地为10至1000;s的值使得比例n:s在0.3:0.7至0.9:0.1的范围内;和t是0或1;

其中所述共聚物任选地进一步包括一个或多个下式的重复单元:

-O-CHL'-CH2-,其中L'具有式-CH2-O-CH2-CH2-CH2-Q,其中Q是带正电荷的基团。

2.权利要求1的多孔膜,其中Y选自COOH,SO3H,苯基-SO3H,NHR和NR3+,其中R是氢或烷基。

3.权利要求1或2的多孔膜,其中Rf为CpF2p+1-(CH2)q(OCH2)r,其中p为1至12,q为0至3,和r为0至2。

4.权利要求1或2的多孔膜,其中所述比例n:s为0.3:0.7。

5.权利要求1或2的多孔膜,其中所述比例n:s为1:1。

6.权利要求1或2的多孔膜,其中所述比例n:s是0.9:0.1。

7.权利要求3的多孔膜,其中Rf是C6F13(CH2)2OCH2-或C6F13CH2-。

8.权利要求1或2的多孔膜,其中所述式(I)的共聚物是嵌段共聚物。

9.权利要求1或2的多孔膜,其中所述式(I)的共聚物是无规共聚物。

10.权利要求1或2的多孔膜,其中所述共聚物是交联的。

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