[发明专利]一种化学机械抛光液在审
| 申请号： | 201711439535.9 | 申请日： | 2017-12-27 |
| 公开（公告）号： | CN109971356A | 公开（公告）日： | 2019-07-05 |
| 发明（设计）人： | 周文婷 | 申请（专利权）人： | 安集微电子（上海）有限公司 |
| 主分类号： | C09G1/02 | 分类号： | C09G1/02 |
| 代理公司： | 北京大成律师事务所 11352 | 代理人： | 李佳铭;沈汶波 |
| 地址： | 201203 上海市浦东新区张江高科技园区*** | 国省代码： | 上海;31 |
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| 摘要： | |||
| 搜索关键词： | 化学机械抛光液 增速剂 二氧化硅研磨颗粒 吡咯烷化合物 吡咯化合物 吡啶化合物 哌啶化合物 嘧啶化合物 氨基基团 酸性化学 羧基基团 抛光 氮化硅 多晶硅 抛光液 去除 | ||
1.一种化学机械抛光液，其特征在于，所述化学机械抛光液包括二氧化硅研磨颗粒和增速剂；其中，所述增速剂选为含一个或多个羧基基团的吡啶化合物、哌啶化合物、吡咯烷化合物或吡咯化合物及其衍生物，以及含一个或多个氨基基团的嘧啶化合物及其衍生物。
2.如权利要求1所述的化学机械抛光液，其特征在于，所述二氧化硅颗粒的浓度为质量百分比为1～15％。
3.如权利要求2所述的化学机械抛光液，其特征在于，所述二氧化硅颗粒的浓度为1～10％。
4.如权利要求1所述的化学机械抛光液，其特征在于，所述含一个或多个羧基基团的吡啶化合物、哌啶化合物、吡咯烷化合物或吡咯化合物及其衍生物选自2‐羧基吡啶、3‐羧基吡啶、4‐羧基吡啶、2,3‐二羧基吡啶、2,4‐二羧基吡啶、2,6‐二羧基吡啶，3,5‐二羧基吡啶、2‐羧基哌啶，3‐羧基哌啶，
4‐羧基哌啶，2,3‐二羧基哌啶，2,4‐二羧基哌啶，2,6‐二羧基哌啶，3,5‐二羧基哌啶，2‐羧基吡咯烷，3‐羧基吡咯烷，2,4‐二羧基吡咯烷，2,5‐二羧基吡咯烷，2‐羧基吡咯，3‐羧基吡咯，2,5‐二羧基吡咯，3,4‐二羧基吡啶中的一种或多种。
5.如权利要求4所述的化学机械抛光液，其特征在于，所述含一个或多个羧基基团的吡啶化合物、哌啶化合物、吡咯烷化合物或吡咯化合物及其衍生物的浓度为质量百分比为0.01～1％。
6.如权利要求5所述的化学机械抛光液，其特征在于，所述含一个或多个羧基基团的吡啶化合物、哌啶化合物、吡咯烷化合物或吡咯化合物及其衍生物的浓度为质量百分比为0.05～0.6％。
7.如权利要求1所述的化学机械抛光液，其特征在于，所述含一个或氨基的嘧啶化合物及其衍生物选自2‐氨基嘧啶，4‐氨基嘧啶，2,4‐二氨基嘧啶，2,4,5‐三氨基嘧啶及其衍生物中的一种或多种。
8.如权利要求7所述的化学机械抛光液，其特征在于，所述含一个或多个氨基的嘧啶化合物及其衍生物的浓度为质量百分比为0.01～1％。
9.如权利要求8所述的化学机械抛光液，其特征在于，所述含一个或多个氨基的嘧啶化合物及其衍生物的浓度为质量百分比为0.02％～0.6％。
10.如权利要求1所述的化学机械抛光液，其特征在于，所述化学机械抛光液的pH值为2‐6。
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