[发明专利]一种化学机械抛光液

权利要求书

1.一种化学机械抛光液，其特征在于，所述化学机械抛光液包含二氧化硅研磨颗粒，腐蚀抑制剂，络合剂，氧化剂，和至少一种聚丙烯酸类阴离子表面活性剂，其中， 所述研磨颗粒的平均粒径为60～140nm，所述研磨颗粒的粒径分布指数PdI为0.1～0.6； 所述聚丙烯酸类阴离子表面活性剂为聚丙烯酸均聚物和/或共聚物及聚丙烯酸均聚物和/或共聚物的盐；所述络合剂为氨羧化合物及其盐； 所述腐蚀抑制剂为不含苯环的氮唑类化合物中的一种或多种；以及， 所述氧化剂为过氧化氢、过氧化脲、过氧甲酸、过氧乙酸、过硫酸盐、过碳酸盐、高碘酸、高氯酸、高硼酸、高锰酸钾和硝酸铁中的一种或多种。

2.如权利要求1所述的化学机械抛光液，其特征在于，所述研磨颗粒的平均粒径为80～120nm。

3.如权利要求1所述的化学机械抛光液，其特征在于，所述研磨颗粒的浓度为0.05～2wt%。

4.如权利要求3所述的化学机械抛光液，其特征在于，所述研磨颗粒的浓度为0.1～1wt%。

5.如权利要求1所述的化学机械抛光液，其特征在于，所述聚丙烯酸类均聚物为聚丙烯酸和/或聚马来酸；所述聚丙烯酸类共聚物为聚丙烯酸-聚丙烯酸酯共聚物和/或聚丙烯酸-聚马来酸共聚物；所述聚丙烯酸均聚物和/或共聚物的盐为钾盐、铵盐和/或钠盐。

6.如权利要求1所述的化学机械抛光液，其特征在于，所述聚丙烯酸类阴离子表面活性剂的分子量为1,000～10,000。

7.如权利要求6所述的化学机械抛光液，其特征在于，所述聚丙烯酸类阴离子表面活性剂的分子量为2,000～5,000。

8.如权利要求1所述的化学机械抛光液，其特征在于，所述聚丙烯酸类阴离子表面活性剂浓度为0.0005～0.5wt%。

9.如权利要求8所述的化学机械抛光液，其特征在于，所述聚丙烯酸类阴离子表面活性剂浓度为0.001～0.1wt%。

10.如权利要求1所述的化学机械抛光液，其特征在于，所述络合剂选自甘氨酸、丙氨酸、缬氨酸、亮氨酸、脯氨酸、苯丙氨酸、酪氨酸、色氨酸、赖氨酸、精氨酸、组氨酸、丝氨酸、天冬氨酸、谷氨酸、天冬酰胺、谷氨酰胺、氨三乙酸、乙二胺四乙酸、环己二胺四乙酸、乙二胺二琥珀酸、二乙烯三胺五乙酸和三乙烯四胺六乙酸中的一种或多种。

11.如权利要求1所述的化学机械抛光液，其特征在于，所述络合剂含量为0.1～5wt%。

12.如权利要求11所述的化学机械抛光液，其特征在于，所述络合剂含量为0.5～3wt%。

13.如权利要求1所述的化学机械抛光液，其特征在于，所述腐蚀抑制剂选自1，2，4-三氮唑、3-氨基-1，2，4-三氮唑、4-氨基-1，2，4-三氮唑、3，5-二氨基-1，2，4-三氮唑、5-羧基-3-氨基-1，2，4-三氮唑、3-氨基-5-巯基-1，2，4-三氮唑、5-乙酸-1H-四氮唑、5-甲基四氮唑和5-氨基-1H-四氮唑中的一种或多种。

14.如权利要求1所述的化学机械抛光液，其特征在于，所述腐蚀抑制剂的含量为0.001～2wt%。

15.如权利要求14所述的化学机械抛光液，其特征在于，所述腐蚀抑制剂的含量为0.005～1wt%。

16.如权利要求1所述的化学机械抛光液，其特征在于，所述氧化剂为过氧化氢。

17.如权利要求1所述的化学机械抛光液，其特征在于，所述氧化剂的浓度为0.05～5wt%。