[发明专利]一种化学机械抛光液在审
| 申请号： | 201711439627.7 | 申请日： | 2017-12-27 |
| 公开（公告）号： | CN109971358A | 公开（公告）日： | 2019-07-05 |
| 发明（设计）人： | 潘依君;荆建芬;张建;姚颖;宋凯;蔡鑫元;杨俊雅;卞鹏程;李恒 | 申请（专利权）人： | 安集微电子（上海）有限公司 |
| 主分类号： | C09G1/02 | 分类号： | C09G1/02;H01L21/306 |
| 代理公司： | 北京大成律师事务所 11352 | 代理人： | 李佳铭;沈汶波 |
| 地址： | 201203 上海市浦东新区张江高科技园区*** | 国省代码： | 上海;31 |
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| 摘要： | |||
| 搜索关键词： | 多晶硅 非离子表面活性剂 化学机械抛光液 抛光液 水溶性高分子聚合物 聚乙烯吡咯烷酮 二氧化硅 碱性条件 研磨颗粒 平坦化 选择比 去除 | ||
1.一种化学机械抛光液，其特征在于，所述化学机械抛光液含有二氧化硅研磨颗粒、一种水溶性高分子聚合物和一种非离子表面活性剂。
2.如权利要求1所述的化学机械抛光液，其特征在于，所述二氧化硅研磨颗粒的质量百分比浓度为2‐15％。
3.如权利要求2所述的化学机械抛光液，其特征在于，所述研磨颗粒的质量百分比浓度为5‐10％。
4.如权利要求1所述的化学机械抛光液，其特征在于，所述研磨颗粒的粒径为20‐200nm。
5.如权利要求4所述的化学机械抛光液，其特征在于，所述研磨颗粒的粒径为50‐120nm。
6.如权利要求1所述的化学机械抛光液，其特征在于，所述水溶性高分子聚合物为羟乙基纤维素或羟丙基纤维素。
7.如权利要求6所述的化学机械抛光液，其特征在于，所述水溶性高分子聚合物的粘度平均分子量为100000‐3000000。
8.如权利要求7所述的化学机械抛光液，其特征在于，所述水溶性高分子聚合物的粘度平均分子量为300000‐1500000。
9.如权利要求6所述的化学机械抛光液，其特征在于，所述水溶性高分子聚合物的质量百分比浓度为0.005‐0.5％。
10.如权利要求9所述的化学机械抛光液，其特征在于，所述水溶性高分子聚合物的质量百分比浓度为0.01‐0.1％。
11.如权利要求1所述的化学机械抛光液，其特征在于，所述非离子表面活性剂为聚乙烯吡咯烷酮。
12.如权利要求11所述的化学机械抛光液，其特征在于，所述聚乙烯吡咯烷酮的分子量为2000～400000。
13.如权利要求12所述的化学机械抛光液，其特征在于，所述聚乙烯吡咯烷酮的分子量为5000～60000。
14.如权利要求11所述的化学机械抛光液，其特征在于，所述聚乙烯吡咯烷酮的质量百分比浓度为0.001～1％。
15.如权利要求14所述的化学机械抛光液，其特征在于，所述聚乙烯吡咯烷酮的质量百分比浓度为0.01～0.5％。
16.如权利要求1所述的化学机械抛光液，其特征在于，所述化学机械抛光液的pH值为8.0‐12.0。
17.如权利要求16所述的化学机械抛光液，其特征在于，所述化学机械抛光液的pH值为9.0‐11.0。
18.一种如权利要求1‐17任一项所述的化学机械抛光液在抛光多晶硅中的应用。
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