[发明专利]一种化学机械抛光液有效
| 申请号： | 201711439628.1 | 申请日： | 2017-12-27 |
| 公开（公告）号： | CN109971359B | 公开（公告）日： | 2021-12-07 |
| 发明（设计）人： | 周文婷;荆建芬 | 申请（专利权）人： | 安集微电子（上海）有限公司 |
| 主分类号： | C09G1/02 | 分类号： | C09G1/02;C23F3/06 |
| 代理公司： | 北京大成律师事务所 11352 | 代理人： | 李佳铭;沈汶波 |
| 地址： | 201203 上海市浦东新区张江高科技园区*** | 国省代码： | 上海;31 |
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| 摘要： | |||
| 搜索关键词： | 一种 化学 机械抛光 | ||
1.一种化学机械抛光液，其特征在于，所述化学机械抛光液由二氧化硅，至少一种增速剂，唑类化合物，pH调节剂和水组成；其中，所述的增速剂为含一个或多个羧基基团的吡啶化合物、哌啶化合物、吡咯烷化合物或吡咯化合物，其中所述增速剂选自2-羧基吡啶、3-羧基吡啶、4-羧基吡啶、2,3-二羧基吡啶、2,4-二羧基吡啶、2,6-二羧基吡啶，3,5-二羧基吡啶、2-羧基哌啶，3-羧基哌啶，4-羧基哌啶，2,3-二羧基哌啶，2,4-二羧基哌啶，2,6-二羧基哌啶，3,5-二羧基哌啶，2-羧基吡咯烷，3-羧基吡咯烷，2,4-二羧基吡咯烷，2,5-二羧基吡咯烷，2-羧基吡咯，3-羧基吡咯，2,5-二羧基吡咯，3,4-二羧基吡啶中的一种或多种；所述唑类化合物包括1，2，3-三氮唑，1H-四氮唑，1，2，4-三氮唑，1-甲基-5氨基四氮唑，5-甲基四氮唑，1-氨基-5-巯基-1，2，4四氮唑，5-苯基四氮唑和1-苯基-5-巯基四氮唑，苯并三氮唑，5-甲基-1，2，3-苯并三氮唑，5-羧基苯并三氮唑、1-羟基-苯并三氮唑，3-氨基-1，2，4-三氮唑、3，5-二氨基-1，2，4-三氮唑、5-羧基-3-氨基-1，2，4-三氮唑、3-氨基-5-巯基-1，2，4-三氮唑、5-乙酸-1H-四氮唑、5-甲基四氮唑和5-氨基-1H-四氮唑中的一种或多种；所述二氧化硅的质量百分比浓度为0.5～8%；所述增速剂的质量百分比浓度为0.001～1%；所述唑类化合物的质量百分比浓度为0.001～3%；并且，所述化学机械抛光液的pH值大于所述含一个或多个羧基基团的吡啶化合物、哌啶化合物、吡咯烷化合物或吡咯化合物的pKa1的1.5个单位且小于6.5。
2.如权利要求1所述的化学机械抛光液，其特征在于，所述二氧化硅的质量百分比浓度为1%～5%。
3.如权利要求1所述的化学机械抛光液，其特征在于，所述增速剂的质量百分比浓度为0.01～0.5%。
4.如权利要求1所述的化学机械抛光液，其特征在于，所述唑类化合物的质量百分比浓度为0.01～1%。
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