[发明专利]一种清洗液在审
申请号: | 201711439631.3 | 申请日: | 2017-12-27 |
公开(公告)号: | CN109976110A | 公开(公告)日: | 2019-07-05 |
发明(设计)人: | 何春阳;赵鹏;刘兵;孙广胜 | 申请(专利权)人: | 安集微电子(上海)有限公司 |
主分类号: | G03F7/42 | 分类号: | G03F7/42 |
代理公司: | 北京大成律师事务所 11352 | 代理人: | 李佳铭;沈汶波 |
地址: | 201203 上海市浦东新区张江高科技园区*** | 国省代码: | 上海;31 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 清洗液 去除 清洗 等离子刻蚀残留物 半导体晶片清洗 半导体制程 单片旋转式 低介电常数 金属抗蚀剂 烷基多元醇 微电子领域 操作窗口 清洗能力 旋转喷雾 氟化物 高转速 浸泡式 有机胺 灰化 应用 | ||
1.一种清洗液,其特征在于,包括氟化物,有机胺,烷基多元醇,金属抗蚀剂以及水,
所述清洗液中不含有羟胺及氧化剂。
2.如权利要求1所述的清洗液,其特征在于,
所述氟化物包括氟化氢和/或氟化氢与碱形成的盐。
3.如权利要求3所述的清洗液,其特征在于,
所述氟化物包括氟化氢(HF)、氟化铵(NH4F)、氟化氢铵(NH4HF2)、四甲基氟化铵(N(CH3)4F)和三羟乙基氟化铵(N(CH2OH)3HF)中的一种或多种。
4.如权利要求1所述的清洗液,其特征在于,
所述氟化物的含量较佳的为质量百分比0.01~25%。
5.如权利要求1所述的清洗液,其特征在于,
所述有机胺包括含羟基、氨基和羧基的有机胺中的一种或多种。
6.如权利要求6所述的清洗液,其特征在于,
所述的含羟基的有机胺包括醇胺;所述的含氨基的有机胺包括有机多胺;
所述含羧基的有机胺包括氨基的有机酸。
7.如权利要求7所述的清洗液,其特征在于,
所述醇胺包括乙醇胺、二乙醇胺、三乙醇胺、异丙醇胺、N,N-二甲基乙醇胺和N-甲基二乙醇胺中的一种或多种;所述有机多胺包括二乙烯三胺、五甲基二乙烯三胺和多乙烯多胺中的一种或多种;所述有机酸包括2-氨基乙酸、2-氨基苯甲酸、亚氨基二乙酸,氨三乙酸和乙二胺四乙酸中的一种或多种。
8.如权利要求8所述的清洗液,其特征在于,
所述有机胺包括五甲基二乙烯三胺、亚氨基二乙酸和三乙醇胺中的一种或多种。
9.如权利要求1所述的清洗液,其特征在于,
所述有机胺的质量百分比浓度为10~50%。
10.如权利要求1所述的清洗液,其特征在于,
所述烷基多元醇包括1,2-丙二醇、丙三醇、1,4-丁二醇、己二醇、戊二醇、二甘醇、一缩二丙二醇中的一种或多种。
11.如权利要求1所述的清洗液,其特征在于,
所述烷基多元醇的质量百分比浓度为5~35%。
12.如权利要求1所述的清洗液,其特征在于所述金属抗蚀剂包括巯基唑类化合物和肼基衍生物类化合物中的一种或多种。
13.如权利要求12所述的清洗液,其特征在于,
所述巯基唑类化合物无包括2-巯基噻二唑、2-氨基-1,3,4-噻二唑、3-巯基苯甲酸和4-巯基苯甲酸;所述肼基衍生物类化合物包括肼基甲酸甲酯、对肼基苯甲酸、肼基甲酸苄酯、肼基甲酸乙酯、肼基甲酸叔丁酯、2-羟乙基肼、2,2'-亚肼基二乙醇、羟乙基乙二胺中的一种或多种。
14.如权利要求1所述的清洗液,其特征在于,
所述金属抗蚀剂的质量百分比浓度为0.001~5%。
15.如权利要求14所述的清洗液,其特征在于,
所述金属抗蚀剂的质量百分比浓度为0.01-3%。
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