[发明专利]一种基于核电站薄板平面T型焊缝的电磁检测探头

权利要求书

1.一种基于核电站薄板平面T型焊缝的电磁检测探头，其特征在于：该探头包括探头磁场激励结构，黏胶结合层和探头检测结构；

所述探头磁场激励结构位于探头检测结构上部，探头磁场激励结构和探头检测结构之间设置黏胶结合层隔离；

探头磁场激励结构在被检试件表面交替激励出水平和垂直的均匀磁场，使被检样件表面产生均匀变化的电场，当被检样件表面存在缺陷时，该均匀变化的电场会产生扰动，电场的扰动会产生二次磁场，探头检测结构根据二次磁场，产生相应的信号反馈，实现被检样件表面缺陷的定位和检测分析。

2.根据权利要求1所述的一种基于核电站薄板平面T型焊缝的电磁检测探头，其特征在于：所述探头磁场激励结构包括激励模块骨架和激励线圈；

所述激励模块骨架为十字架结构，十字架结构的支腿为长方体结构，支腿横截面为正方形；所述支腿外表面沿周向蚀刻一定宽度和深度的矩形槽，四个支腿蚀刻矩形槽的位置、深度和宽度相同，四个支腿蚀刻矩形槽的中心距十字架结构几何中心的距离相同；

所述矩形槽中绕制激励线圈，四个激励线圈的中心线连线形成交叠区，四个矩形槽中绕制的激励线圈的线圈绕制匝数和绕制方向相同；

所述相对设置的两个激励线圈加载同向电流，在相对设置的两个激励线圈之间产生均匀磁场，在相对设置的两个激励线圈加载同向电流时，另一侧相对设置的两个激励线圈保持断路状态。

3.根据权利要求2所述的一种基于核电站薄板平面T型焊缝的电磁检测探头，其特征在于：所述激励线圈的线圈绕制匝数范围为100-1000，所述激励线圈的线圈绕制线径范围为0.2mm-1mm的铜质漆包线，所述相对设置的两个激励线圈加载同向电流的范围优选为20mA-2A。

4.根据权利要求3所述的一种基于核电站薄板平面T型焊缝的电磁检测探头，其特征在于：两个方向相对设置的两个激励线圈加载同向电流状态切换时，首先对断电后相对设置的两个激励线圈加载反向电流进行消磁处理。

5.根据权利要求2所述的一种基于核电站薄板平面T型焊缝的电磁检测探头，其特征在于：所述探头磁场激励结构还包括激励电源模块，激励电源模块为相对设置的两个激励线圈提供同向电流。

6.根据权利要求2所述的一种基于核电站薄板平面T型焊缝的电磁检测探头，其特征在于：所述探头检测结构包括基板和螺旋线圈；

所述基板为柔性印制电路板，基板上密排蚀刻x排n列螺旋线圈，所述螺旋线圈的绕制方向相同；

所述螺旋线圈蚀刻在基板的线圈阵列区域，所述基板的线圈阵列区域以外区域用铜覆层进行屏蔽；

所述基板的线圈阵列区域与探头磁场激励结构的四个激励线圈的中心线连线形成交叠区相对应；

当探头磁场激励结构的激励线圈在被检试件表面交替激励出水平和垂直的均匀磁场，使被检样件表面产生均匀变化的电场，当被检样件表面存在缺陷时，均匀变化的电场产生扰动，电场的扰动产生二次磁场，所述螺旋线圈根据二次磁场，产生相应的反馈信号，实现被检样件表面缺陷的定位和检测分析。

7.根据权利要求6所述的一种基于核电站薄板平面T型焊缝的电磁检测探头，其特征在于：所述探头检测结构还包信号处理单元，所述信号处理单元与螺旋线圈电连接；所述螺旋线圈产生的相应反馈信号传递给信号处理单元进行处理，实现被检样件表面缺陷的定位和检测分析。

8.根据权利要求1所述的一种基于核电站薄板平面T型焊缝的电磁检测探头，其特征在于：所述探头磁场激励结构与探头检测结构之间采用一定厚度粘合胶水形成黏胶结合层进行粘接。

9.根据权利要求1所述的一种基于核电站薄板平面T型焊缝的电磁检测探头，其特征在于：该探头还包括耐磨层，探头检测结构外部设置耐磨层进行保护。

10.根据权利要求1所述的一种基于核电站薄板平面T型焊缝的电磁检测探头，其特征在于：所述黏胶结合层和耐磨层为不导电和不导磁材料。