[发明专利]用于测量脱空信息的方法、装置及系统在审

专利信息
申请号: 201711440361.8 申请日: 2017-12-27
公开(公告)号: CN107991328A 公开(公告)日: 2018-05-04
发明(设计)人: 明申金;刘必成;赵自然;阮明;胡斌;邹伟;印炜;林东 申请(专利权)人: 同方威视技术股份有限公司
主分类号: G01N23/20 分类号: G01N23/20;G01B15/00;G01B15/02
代理公司: 北京律智知识产权代理有限公司11438 代理人: 袁礼君,王卫忠
地址: 100084 北京*** 国省代码: 北京;11
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摘要:
搜索关键词: 用于 测量 脱空 信息 方法 装置 系统
【权利要求书】:

1.一种用于测量脱空信息的方法,其特征在于,包括:

获取被检物的反散射信号;

将所述被检物的反散射信号与标定的反散射信号对比,获取信号变化信息;

根据所述信号变化信息获得所述被检物的脱空信息。

2.如权利要求1所述的方法,其中获取被检物的反散射信号通过利用射线源照射所述被检物的脱空缺陷部位获得。

3.如权利要求1或2所述的方法,其中获取被检物的反散射信号包括:

对所述被检物进行逐点扫描检测,获取所述被检物的反散射信号。

4.如权利要求2所述的方法,其中所述射线源包括X射线源、γ射线源、β射线源、α射线源、中子射线源以及放射性同位素源中的任意一种。

5.如权利要求4所述的方法,其中根据所述被检物的性质选择相应种类的射线源。

6.如权利要求1所述的方法,其中所述脱空信息包括脱空面积和/或脱空厚度。

7.如权利要求6所述的方法,还包括:

获取所述标定的反散射信号。

8.如权利要求7所述的方法,其中获取所述标定的反散射信号包括:

采用标准的待检样进行标定,获得所述被检物的脱空厚度与所述信号变化信息之间的关系。

9.如权利要求7所述的方法,其中获取所述标定的反散射信号包括:

根据标准的待检样的参数采用蒙卡模拟计算进行标定,获得所述被检物的脱空厚度与所述信号变化信息之间的关系。

10.如权利要求3所述的方法,还包括:

将所述被检物的反散射信号进行处理,生成脱空厚度等高图。

11.如权利要求6所述的方法,还包括:

控制射线源的强度控制所述脱空厚度的测量精度;和/或

调节准直器的出口缝来控制所述脱空面积的测量精度。

12.一种用于测量脱空信息的装置,其特征在于,包括:

散射信号采集模块,用于获取被检物的反散射信号;

信号对比模块,用于将所述被检物的反散射信号与标定的反散射信号对比,获取信号变化信息;

脱空信息获得模块,用于根据所述信号变化信息获得所述被检物的脱空信息。

13.一种用于测量脱空信息的系统,其特征在于,包括:

射线源,用于向被检物发射射线;

探测器,用于接收所述射线源发射的射线到达所述被检物后反散射回来的反散射信号。

14.如权利要求13所述的系统,其中所述探测器采用能量沉积工作模式或者计数工作模式。

15.如权利要求13所述的系统,还包括:

准直器,用于调整所述射线源发射的射线到达所述被检物的立体角。

16.如权利要求13所述的系统,还包括:

屏蔽,其设置于所述射线源和所述探测器之间,用于阻挡、或部分阻挡所述射线源发射向所述探测器的漏射线和经所述准直器、所述被检物散射向所述探测器的杂散射线。

17.如权利要求16所述的系统,其中所述射线源和所述屏蔽之间的夹角处于预设范围之内。

18.如权利要求17所述的系统,其中所述预设范围与所述被检物的脱空部位最小尺寸相关。

19.如权利要求17或18所述的系统,还包括:

角度调节装置,用于调节所述射线源和所述屏蔽之间的夹角。

20.如权利要求16所述的系统,其中所述屏蔽和所述探测器之间的夹角满足预设条件。

21.如权利要求13所述的系统,还包括:

行走机构,用于载着所述系统相对所述被检物运动,逐点检测所述被检物的脱空部位获得所述被检物的反散射信号。

22.如权利要求13所述的系统,还包括:

处理装置,用于对所述反散射信号进行处理获得所述被检物的脱空信息。

23.如权利要求22所述的系统,其中所述脱空信息包括脱空面积和/或脱空厚度,其中所述处理装置还用于:根据所述被检物的脱空厚度生成脱空厚度等高图。

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