[发明专利]一种电容式触摸屏的干膜式制备方法

权利要求书

1.一种电容式触摸屏的干膜式制备方法，其特征在于：制备方法具体是按以下步骤进行的：一、在透明盖板上使用印刷工艺制作触摸屏边框；二、采用导电纳米干膜通过贴膜工艺贴附在盖板的上表面，形成透明导电膜层；三、对透明导电膜层通过黄光制程进行图案化，在透明导电膜层的表面形成透明触控电极；四、在透明导电膜层的上方涂布透明电极绝缘保护层；五、通过低温固化导电银浆涂布周边引线；六、在最上侧涂布透明保护层，即完成电容式触摸屏的制备。

2.根据权利要求1所述的一种电容式触摸屏的干膜式制备方法，其特征在于：步骤二中，所述导电纳米干膜包括金属纳米线干膜或碳纳米管干膜；其中，金属纳米线干膜所采用的金属纳米线材料为金纳米线材料、银纳米线材料、铜纳米线材料和铝纳米线材料中的一种或其中几种按任意比例的混合纳米线材料；所述金属纳米线干膜包括金属纳米线干膜基片、金属纳米线衬底、金属纳米线透明导电层和金属纳米线上保护膜；所述碳纳米管干膜包括碳纳米管干膜基片、碳纳米管衬底、碳纳米管透明导电层和碳纳米管上保护膜；其中，金属纳米线干膜和碳纳米管干膜中衬底的厚度皆为3-50μm；金属纳米线干膜的金属纳米线透明导电层的厚度为40-120nm、方阻值为10-200ohm/sq；碳纳米管干膜的碳纳米管透明导电层的厚度为20-120nm、方阻值为10-300ohm/sq。

3.根据权利要求2所述的一种电容式触摸屏的干膜式制备方法，其特征在于：步骤二中所述贴膜工艺为：使用贴膜机揭下干膜基片后，直接贴附在透明盖板的上表面，贴膜温度为50-180℃，然后，撕掉上保护膜。

4.根据权利要求1所述的一种电容式触摸屏的干膜式制备方法，其特征在于：步骤一中的触摸屏边框的厚度为1-20μm。

5.根据权利要求1所述的一种电容式触摸屏的干膜式制备方法，其特征在于：步骤三中的黄光制程可替换为激光干刻工艺；其中，激光干刻工艺的参数为，激光能量为1-20W，电极间距为10-70μm；激光干刻速度为0.1-15m/sec。

6.根据权利要求1所述的一种电容式触摸屏的干膜式制备方法，其特征在于：步骤四中的透明电极绝缘保护层涂布的方式为印刷工艺或黄光制程。

7.根据权利要求6所述的一种电容式触摸屏的干膜式制备方法，其特征在于：步骤四中的透明电极绝缘保护层的厚度为2-30μm。

8.根据权利要求1所述的一种电容式触摸屏的干膜式制备方法，其特征在于：步骤五中的周边引线涂布的方式为印刷工艺或黄光制程。

9.根据权利要求1所述的一种电容式触摸屏的干膜式制备方法，其特征在于：步骤六中的透明保护层涂布的方式为印刷工艺或黄光制程。

10.根据权利要求9所述的一种电容式触摸屏的干膜式制备方法，其特征在于：步骤六中的透明保护层的厚度为2-30μm。