[发明专利]准分子激光光刻照明系统相干因子的校准方法在审
| 申请号： | 201711443174.5 | 申请日： | 2017-12-27 |
| 公开（公告）号： | CN108037642A | 公开（公告）日： | 2018-05-15 |
| 发明（设计）人： | 曹益平 | 申请（专利权）人： | 四川大学 |
| 主分类号： | G03F7/20 | 分类号： | G03F7/20 |
| 代理公司： | 暂无信息 | 代理人： | 暂无信息 |
| 地址： | 610065 四川*** | 国省代码： | 四川;51 |
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| 摘要： | |||
| 搜索关键词： | 准分子激光 光刻 照明 系统 相干 因子 校准 方法 | ||
【权利要求书】：
1.准分子激光光刻照明系统相干因子的校准方法，其特征在于，通过针孔、旋转平台、手动X-Y位移平台以及CCD实现CCD感光面和透镜焦平面一致的校准，利用旋转平台转动CCD，改变针孔上一点在CCD上所成的像点的位置，然后通过所获取到的几个不同的像点判断CCD感光面和透镜焦平面是否在同一平面，如果不在同一平面，继续利用所得到的几个点的坐标建立函数关系求出偏离的角度，然后调整CCD感光面的角度，直至两者处在同一平面。
2.按照权利要求1所述的方法，其特征在于，所说的应用旋转平台转动CCD，使得针孔上的一点在CCD上的像点位置改变，然后获取几个像点，建立相关的几何关系式和函数关系式。
3.按照权利要求1所述的方法，其特征在于，利用所获取的关系式判断CCD感光面和透镜的焦平面是否在同一平面，不再同一平面，利用建立的函数关系求出偏离的角度，然后调节CCD感光面的角度，直到两者处在同一平面。
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