[发明专利]一种真空溅射设备及其真空大气交换装置

说明书

本发明公开了一种用于真空溅射设备的真空大气交换装置，真空大气交换装置中装设基板传送轨道，真空大气交换装置中设有沿基板传送轨道的传送路径而设的用以对基板传送轨道上的成膜基板进行快速冷却的冷却装置。本发明还公开了一种真空溅射设备。实施本发明的真空溅射设备及其真空大气交换装置，能够对沉积完成后的基板进行高效快速冷却，解决温度过高及不均匀导致的膜质问题。

技术领域

本发明涉及显示面板制造领域，尤其涉及一种真空溅射设备及其真空大气交换装置。

背景技术

现有技术中，液晶显示器具有低辐射、低功耗以及体积小等特点，逐渐成为显示器件的主流，广泛应用在手机、笔记本电脑、平板电视等产品上。随着面板尺寸逐渐增加，像素分辨率要求提高，越来越多的生产线应用更大型的真空溅射设备。一方面，该真空溅射设备具有大体积、高功率等特点，以应对更大尺寸的成膜需求。另一方面，各生产线产品对导电线阻抗降低的需求，直接引起溅射成膜厚度的增加，从而导致金属膜温度的急剧上升。

例如：现有的真空溅射成膜设备在溅射铜膜时，由相应的测定温度曲线可知，当溅射铜膜厚度增加到800nm时，基板温度最高上升到190摄氏度。由于基板温度的增加，极易引起所镀膜的氧化以及由温度引起的不均匀等各种问题，从而影响所成膜的膜质，降低设备的性能。

发明内容

本发明所要解决的技术问题在于，提供一种真空溅射设备及其真空大气交换装置，能够对沉积完成后的基板进行高效快速冷却，解决温度过高及不均匀导致的膜质问题。

为了解决上述技术问题，本发明实施例提供了一种用于真空溅射设备的真空大气交换装置，真空大气交换装置中装设基板传送轨道，真空大气交换装置中设有沿基板传送轨道的传送路径而设的用以对基板传送轨道上的成膜基板进行快速冷却的冷却装置。

其中，冷却装置设置在基板传送轨道的中间位置和/或基板传送轨道与真空大气交换装置的腔室内壁之间的位置上。

其中，冷却装置环绕设在基板传送轨道的四周位置。

其中，冷却装置的内部设有用以循环冷却液的密闭管路，密闭管路的两端分别设有进液口和出液口。

其中，冷却装置为块状结构，其为独立整块或多块拼接而成。

其中，冷却装置的表面涂覆黑色涂层。

其中，黑色涂层为具有红外吸收功能的碳纳米管涂层或具有红外吸收功能的无机半导体涂层。

其中，冷却装置的表面等均均匀的排布有凸起，凸起的表面涂覆黑色涂层。

其中，黑色涂层为具有红外吸收功能的碳纳米管涂层或具有红外吸收功能的无机半导体涂层。

为解决上述技术问题，本发明还公开了一种真空溅射设备，包括：进片腔室、与进片腔室相连的真空大气交换装置、与真空大气交换装置相连的加热腔室以及与加热腔室相连的至少一个成膜腔室，真空大气交换装置上述的用于真空溅射设备的真空大气交换装置。

实施本发明所提供的真空溅射设备及其真空大气交换装置，具有如下有益效果，真空大气交换装置包括：真空大气交换装置本体，真空大气交换装置本体中装设基板传送轨道，真空大气交换装置本体中设有沿基板传送轨道的传送路径而设的冷却装置，冷却装置能够对基板传送轨道上的成膜基板进行快速冷却，解决温度过高及不均匀导致的膜质问题。

附图说明

为了更清楚地说明本发明实施例或现有技术中的技术方案，下面将对实施例或现有技术描述中所需要使用的附图作简单地介绍，显而易见地，下面描述中的附图仅仅是本发明的一些实施例，对于本领域普通技术人员来讲，在不付出创造性劳动的前提下，还可以根据这些附图获得其他的附图。

图1是本发明实施例真空溅射设备的结构示意图。