[发明专利]喷嘴清洁装置以及喷嘴清洁方法

权利要求书

1.一种喷嘴清洁装置，其是喷嘴的清洁装置，所述喷嘴在下端部形成有沿水平方向延伸的狭缝状的喷出口，该喷出口用于向基板上喷出处理液，其中，具有：

接触构件，一边与所述喷嘴的外表面的下部区域接触，一边沿所述外表面在水平方向上移动并刮除在所述外表面的所述下部区域上附着的附着物；

清洗液贮存槽，上部开口，贮存作为贮存清洗液的清洗液；

喷嘴升降单元，使移动到所述清洗液贮存槽的上方的所述喷嘴在下位置与上位置之间往复移动；

控制单元，进行所述喷嘴升降单元的移动控制，

所述下位置是所述外表面的比所述接触构件接触的所述下部区域更靠上方的上部区域与所述贮存清洗液进行接触的位置，

所述上位置是比所述下位置更靠上方的位置，

在所述接触构件沿所述喷嘴的所述外表面在所述水平方向上移动后，所述喷嘴升降单元使所述喷嘴下降到所述下位置，使所述清洗液贮存槽的所述清洗液接触到所述喷嘴的所述上部区域，

所述喷嘴升降单元使所述喷嘴在所述下位置与所述上位置之间往复移动多次，

在多次所述往复移动中的任一次往复移动中，所述上位置都是所述上部区域在所述贮存清洗液的液面的位置的上方露出的位置，

在所述上位置，所述喷出口与所述贮存清洗液进行接触，

所述控制单元控制所述喷嘴升降单元，

使所述喷嘴在所述下位置与所述上位置之间往复移动至少一次，使在所述喷嘴的所述上部区域残留的所述处理液的残留物移动到所述下部区域的所述下端部侧，然后，使所述喷嘴在所述喷出口比所述贮存清洗液的液面的位置更靠上方的位置、和所述残留物与所述贮存清洗液进行接触的位置之间往复移动。

2.根据权利要求1所述的喷嘴清洁装置，其中，

所述上位置是高度不同的多个位置。

3.根据权利要求1或2所述的喷嘴清洁装置，其中，

在所述喷嘴升降单元使所述喷嘴往复移动后，所述接触构件一边与所述喷嘴的所述下部区域接触一边移动，刮除所述喷嘴上残留的清洗液。

4.根据权利要求1或2所述的喷嘴清洁装置，其中，

还具有向所述喷嘴的外表面喷出清洗液的清洗液喷出部。

5.根据权利要求1或2所述的喷嘴清洁装置，其中，

还具有使在所述清洗液贮存槽中贮存的所述贮存清洗液进行超声波振动的超声波振动部。

6.一种喷嘴清洁方法，其是喷嘴的清洁方法，所述喷嘴在下端部形成有沿水平方向延伸的狭缝状的喷出口，该喷出口用于向基板上喷出处理液，其中，包含：

第一工序，一边使接触构件与所述喷嘴的外表面的下部区域接触，一边沿所述外表面使所述接触构件在水平方向上移动并刮除在所述外表面的所述下部区域上附着的附着物；

第二工序，在所述第一工序之后，使所述喷嘴相对于在清洗液贮存槽中贮存的贮存清洗液在下位置和上位置之间往复移动，

所述下位置是所述外表面的比所述接触构件接触的所述下部区域更靠上方的上部区域与所述贮存清洗液进行接触的位置，

所述上位置是比所述下位置更靠上方的位置，

在所述第二工序中，使所述喷嘴在所述下位置与所述上位置之间往复移动多次，

在多次所述往复移动中的任一次往复移动中，所述上位置都是所述上部区域在所述贮存清洗液的液面的位置的上方露出的位置，

在所述上位置，所述喷出口与所述贮存清洗液进行接触，

在所述第二工序中，使所述喷嘴在所述下位置与所述上位置之间往复移动至少一次，使在所述喷嘴的所述上部区域残留的所述处理液的残留物移动到所述下部区域的所述下端部侧，然后，使所述喷嘴在所述喷出口比所述贮存清洗液的液面的位置更靠上方的位置、和所述残留物与所述贮存清洗液进行接触的位置之间往复移动。