[发明专利]一种OLED薄膜封装结构及封装方法

说明书

本发明提供了一种OLED薄膜封装结构，包括装载有OLED器件的基板和依次覆盖于所述OLED器件上的第一无机阻挡层、有机缓冲层和第二无机阻挡层，第一无机阻挡层的折射率由OLED器件至有机缓冲层的方向逐渐减小，有机缓冲层的折射率小于第一无机阻挡层的折射率，第二无机阻挡层的折射率小于有机缓冲层的折射率。第一无机阻挡层、有机缓冲层和第二无机阻挡层折射率的改变可以增加OLED器件出光效率，阻挡外部水汽和氧气透入OLED器件，避免腐蚀OLED器件内部结构，同时起到隔热的效果，防止后续沉积工艺对OLED器件造成热损伤，有机缓冲层还可以包裹大颗粒异物同时缓释平坦化时期产生的应力，从而提高了器件使用寿命。

技术领域

本发明涉及显示技术领域，特别是涉及一种OLED薄膜封装结构及封装方法。

背景技术

有机发光二极管(OLED)是一种全新的自发光显示技术，具有高亮度、全视角等优点。OLED中的金属电极较为活泼，容易被空气中的水、氧污染导致器件出现黑点，从而严重影响器件寿命。因此，OLED表面常需要覆盖一层阻水氧效果极好的封装层材料，从而提高OLED使用寿命。因此，薄膜封装技术(TFE)是一种必需的封装技术。薄膜封装的OLED具有色域宽、响应快、高对比度等优点，在显示领域得到了广泛应用。

目前常用的TFE采用无机金属氧化物堆叠的方式，形成复合薄膜封装结构。然而，随着薄膜层数的增加，封装薄膜的应力随之增大，造成薄膜开裂。同时光在不同的介质中传播时，由于折射率的差异，会在介质接触面发生反射造成损失。OLED中的光经过多层膜之后，会发生较强的反射损失，因此，亟需一种薄膜封装结构既具有好的阻水氧性能又不影响OLED出光效率。

发明内容

有鉴于此，本发明提供了一种OLED薄膜封装结构，其中第一无机阻挡层、有机缓冲层和第二无机阻挡层折射率的改变可以改善光传播过程中全反射的发生以及部分光折射造成的光损失，从而增加OLED器件的出光效率，多层封装结构可以阻挡外部水汽和氧气透入OLED器件，避免腐蚀OLED器件内部结构，同时起到隔热的效果，防止后续沉积工艺对OLED器件造成热损伤，其中，有机缓冲层还可以包裹大颗粒异物同时缓释平坦化时期产生的应力，从而提高了器件使用寿命。

第一方面，本发明提供了一种OLED薄膜封装结构，包括装载有OLED器件的基板和依次覆盖于所述OLED器件上的第一无机阻挡层、有机缓冲层和第二无机阻挡层，所述第一无机阻挡层的折射率由所述OLED器件至所述有机缓冲层的方向逐渐减小，所述有机缓冲层的折射率小于所述第一无机阻挡层的折射率，所述第二无机阻挡层的折射率小于所述有机缓冲层的折射率。

可选的，所述第一无机阻挡层的折射率为1.7-1.9，所述有机缓冲层的折射率为1.6-1.7，所述第二无机阻挡层的折射率为1.5-1.6。所述第一无机阻挡层的折射率由所述OLED器件至所述有机缓冲层的方向逐渐减小，且所述有机缓冲层的折射率小于所述第一无机阻挡层的折射率，即为所述有机缓冲层的折射率小于所述第一无机阻挡层中的最小折射率。

可选的，所述第一无机阻挡层的材质包括氮化硅、氮化铝、氮化锆、氮化钛、氮化钽、氧化钛、氮氧化铝、氮氧化硅中的一种或多种，所述第二无机阻挡层的材质包括氧化硅、氧化铝、氮氧化硅中的一种或多种。进一步可选的，所述第一无机阻挡层的材质包括氮化硅和氮氧化硅中的至少一种，所述第二无机阻挡层的材质包括氧化铝和氮氧化硅中的至少一种。

可选的，所述有机缓冲层的材质包括环氧树脂、丙烯醛基树脂、聚酰亚胺树脂、聚萘二甲酸乙二醇酯、聚对苯二甲酸乙二醇酯中的一种或多种。

可选的，所述第一无机阻挡层的厚度为100nm-2000nm，所述有机缓冲层的厚度为2μm-10μm，所述第二无机阻挡层的厚度为1μm-3μm。进一步可选的，所述第一无机阻挡层的厚度为500nm-1500nm，所述有机缓冲层的厚度为3μm-8μm，所述第二无机阻挡层的厚度为1.5μm-3μm。