[发明专利]一种分布式光楔扫描中波红外消热差成像镜头有效

专利信息
申请号: 201711449232.5 申请日: 2017-12-27
公开(公告)号: CN108107554B 公开(公告)日: 2020-10-02
发明(设计)人: 窦宗鑫;苪涛;林晶;张淼;张晨钟 申请(专利权)人: 天津津航技术物理研究所
主分类号: G02B13/00 分类号: G02B13/00;G02B13/14
代理公司: 中国兵器工业集团公司专利中心 11011 代理人: 张然
地址: 300308 天津*** 国省代码: 天津;12
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摘要:
搜索关键词: 一种 分布式 扫描 中波 红外 消热差 成像 镜头
【说明书】:

本发明公开了一种分布式光楔扫描中波红外消热差成像镜头,其中,光学系统包括,光路从前之后包括光楔组第1光楔、光楔组第2光楔、扫描第1反射镜、扫描第2反射镜、成像组第1透镜、成像组第2透镜、成像组第3透镜、成像组第4透镜、成像组第5透镜以及成像组第6透镜;光楔组第1光楔前后两表面均为平面,后表面为倾斜面;光楔组第2光楔前后两表面均为平面,前表面为倾斜面;成像组第1透镜前表面为以非球面为基底的衍射面,后表面为平面;成像组第2透镜的前后表面为球面;成像组组第3透镜前表面为非球面,后表面为球面;成像组组第4透镜的前表面为球面,后表面为非球面;成像组第5透镜的前表面和后表面为球面;成像组组第6透镜的后表面为平面。

技术领域

本发明属于光学系统设计技术领域,涉及一种分布式光楔扫描中波红外消热差成像镜头。

背景技术

红外光学系统成像性能对工作温度较为敏感,宽温度范围工作时,光学系统的像面会随温度变化发生漂移,必须采用无热化技术消除温度对红外光学系统的影响。本发明光学系统工作波段3μm~5μm,在此波段范围内的可用材料较少,光学系统消色差较难。

目前关于这种分布式光楔扫描、中波红外、消热差成像镜头,国内外尚无公开发表的专利

发明内容

本发明的目的在于提供一种分布式光楔扫描中波红外消热差成像镜头,用于解决上述现有技术的问题。

本发明一种分布式光楔扫描中波红外消热差成像镜头,其中,光学系统包括,光路从前之后包括光楔组第1光楔、光楔组第2光楔、扫描第1反射镜、扫描第2反射镜、成像组第1透镜、成像组第2透镜、成像组第3透镜、成像组第4透镜、成像组第5透镜以及成像组第6透镜;光楔组第1光楔前后两表面均为平面,后表面为倾斜面;光楔组第2光楔前后两表面均为平面,前表面为倾斜面;成像组第1透镜前表面为以非球面为基底的衍射面,后表面为平面;成像组第2透镜的前后表面为球面;成像组组第3透镜前表面为非球面,后表面为球面;成像组组第4透镜的前表面为球面,后表面为非球面;成像组第5透镜的前表面和后表面为球面;成像组组第6透镜的后表面为平面。

根据本发明的分布式光楔扫描中波红外消热差成像镜头的一实施例,其中,光楔组第1光楔和光楔组第2光楔的距离变化范围为6mm~7mm;光楔组第2光楔和扫描第1反射镜的距离变化范围为28mm~29mm;短扫描第1反射镜和扫描第2反射镜距离变化范围为28mm~29mm;短扫描第2反射镜和成像组第1透镜距离变化范围为30mm~31mm;成像组第1透镜和成像组第2透镜距离变化范围为19.5mm~20.5mm;成像组第2透镜和成像组第3透镜距离变化范围为16.3mm~17.3mm;成像组第3透镜和成像组第4透镜距离变化范围为1.95mm~2.05mm;成像组第4透镜和成像组第5透镜距离变化范围为0.8mm~0.9mm;成像组第5透镜和成像组第6透镜距离变化范围为0.9mm~1mm。

根据本发明的分布式光楔扫描中波红外消热差成像镜头的一实施例,其中,光楔组第1光楔的材料为Ge,前后两表面均为平面,后表面为倾斜面,楔角范围为2.082°~2.098°,通光口径为80mm*44.5mm,厚度范围为2.4mm~2.6mm.

根据本发明的分布式光楔扫描中波红外消热差成像镜头的一实施例,其中,光楔组第2光楔的材料为Si,前后两表面均为平面,前表面为倾斜面,楔角范围为-6.5°~-6.4°,通光口径为76mm*43.5mm,厚度范围为6.9mm~7.1mm。

根据本发明的分布式光楔扫描中波红外消热差成像镜头的一实施例,其中,扫描第1反射镜光学材料为K4,通光口径范围为φ41.9mm~φ42mm;扫描第2反射镜光学材料为K4,通光口径范围为57mm*42mm。

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