[发明专利]一种双层透明触控电极电容式触摸屏的制备方法

权利要求书

1.一种双层透明触控电极电容式触摸屏的制备方法，其特征在于：制备方法具体是按以下步骤进行的：一、在透明盖板上使用印刷工艺制作触摸屏边框；二、在透明盖板的上表面采用导电纳米线墨水材料涂布第一纳米线透明导电膜层；三、对步骤二得到的第一纳米线透明导电膜层通过黄光制程进行图案化，形成X方向透明触控电极；四、在X方向透明触控电极的上方涂布透明绝缘层；五、在透明绝缘层的上表面采用导电纳米线墨水材料涂布第二纳米线透明导电膜层；六、对步骤五得到的第二纳米线透明导电膜层通过黄光制程进行图案化，形成Y方向透明触控电极；七、通过低温固化导电银浆涂布周边引线；八、在最上侧涂布透明保护层，即完成电容式触摸屏的制备。

2.根据权利要求1所述的一种双层透明触控电极电容式触摸屏的制备方法，其特征在于：步骤一中的触摸屏边框的厚度为1-20μm。

3.根据权利要求1所述的一种双层透明触控电极电容式触摸屏的制备方法，其特征在于：步骤二或步骤五中的导电纳米线墨水材料涂布的方式为狭缝挤压式涂布工艺、旋涂工艺、刮涂工艺或辊涂工艺；导电纳米线墨水材料为金属纳米线墨水材料或碳纳米管墨水材料；其中，金属纳米线墨水材料为金纳米线材料、银纳米线材料、铜纳米线材料和铝纳米线材料中的一种或其中几种按任意比例的复合墨水材料。

4.根据权利要求3所述的一种双层透明触控电极电容式触摸屏的制备方法，其特征在于：步骤二或步骤五中的纳米线透明导电膜层的具体制作方式为：通过狭缝挤压式涂布工艺涂布金属纳米线墨水材料，墨水湿膜厚度7-30μm，经50-150℃、30-240秒的干燥工艺后形成厚度为50-120nm的透明导电膜层；此透明导电膜层的方阻值为10-200ohm/sq。

5.根据权利要求3所述的一种双层透明触控电极电容式触摸屏的制备方法，其特征在于：步骤二或步骤五中的纳米线透明导电膜层的具体制作方式为：通过狭缝挤压式涂布工艺涂布碳纳米管墨水材料，墨水湿膜厚度7-30μm，经50-110℃、30-180秒的干燥工艺后形成厚度为20-120nm的透明导电膜层；此透明导电膜层的方阻值为10-300ohm/sq。

6.根据权利要求1所述的一种双层透明触控电极电容式触摸屏的制备方法，其特征在于：步骤三或步骤六中，黄光制程可替换为激光干刻工艺；其中，激光干刻工艺的参数为，激光能量为1-20W，电极间距为10-70μm；激光干刻速度为0.1-15m/sec。

7.根据权利要求1所述的一种双层透明触控电极电容式触摸屏的制备方法，其特征在于：步骤四中的透明绝缘层涂布的方式为印刷工艺或黄光制程。

8.根据权利要求7所述的一种双层透明触控电极电容式触摸屏的制备方法，其特征在于：步骤四中的透明绝缘层的厚度为2-30μm。

9.根据权利要求1所述的一种双层透明触控电极电容式触摸屏的制备方法，其特征在于：步骤七中的周边引线涂布的方式为印刷工艺或黄光制程。

10.根据权利要求1所述的一种双层透明触控电极电容式触摸屏的制备方法，其特征在于：步骤八中的透明保护层涂布的方式为印刷工艺或黄光制程，其中，透明保护层的厚度为2-30μm。