[发明专利]光罩及图案化方法

说明书

本发明提供一种光罩及图案化方法，通过在光罩的光罩主体上设置用于聚光的透镜，并使所述透镜遮盖所述光罩主体上的透光区。由于所述透镜具有聚光作用，使得通过所述光罩形成光阻层时，透过所述透镜的光线能够倾斜的照射于形成所述光阻层的光阻材料层上，从而使得得到的所述光阻层的光阻区的斜面与所述基板的夹角相对于现有技术中减小，进而使得沉积于所述基板上的待图案化膜层与所述光阻层的斜面形成的空隙增大，使得剥离图案化的所述光阻层的剥离液会容易的渗入所述空隙中，进而容易的通过所述空隙渗入所述光阻层与所述基板之间，从而提高所述光阻层从所述基板上剥离的效率。

技术领域

本发明涉及显示技术领域，尤其涉及一种光罩及图案化方法。

背景技术

现有技术中，膜层的图案化可以通过先在基板上形成图案化的光阻层，再在图案化的光阻层上沉积膜层，使得所述膜层部分沉积于图案化的所述光阻层上，部分沉积于未被图案化的光阻层覆盖的基板上。通过将图案化的所述光阻层剥离的同时，将沉积于图案化的所述光阻层上的膜层同时带起(Lift-off)，从而在所述基板上形成图案化的膜层。将图案化的所述光阻层从所述基板上剥离时，需要通过将剥离液渗入所述基板与所述光阻层之间，所述剥离液渗入的速度越快，图案化的所述光阻层从所述基板上剥离的效率越高。

发明内容

本发明的提供一种光罩及图案化方法，提高图案化的光阻层从基板上剥离的效率。

所述光罩包括光罩主体及设于所述光罩主体上的透镜，所述光罩主体包括透光区及遮光区，所述透镜遮挡所述透光区，所述透镜用于聚光。

其中，所述透镜为菲涅尔透镜，所述透镜包括一光面及与所述光面相对的图案面。

其中，所述透镜包括入光面及与所述入光面相对的出光面，所述入光面为所述图案面，所述出光面为所述光面。

其中，所述光罩主体上还设有半透光区。

其中，所述透镜内嵌于所述光罩主体内或固定于所述光罩主体上。

所述图案化方法包括步骤：

在一基板上形成覆盖所述基板的光阻材料层；

通过一光罩对所述光阻材料层进行图案化，得到光阻层；所述光罩包括光罩主体及设于所述光罩主体上的透镜，所述光罩主体包括透光区及遮光区，所述透镜遮挡所述透光区，所述透镜用于聚光；所述光阻层部分覆盖所述基板，所述光阻层包括间隔设置的多个光阻区，所述光阻区的截面为梯形，包括上底面、下底面及斜面，所述上底面与所述下底面相对，所述斜面连接所述上底面及所述下底面；

在所述光阻层上形成待图案化膜层，所述待图案化膜层覆盖所述光阻区及每两个相邻的光阻区之间未被所述光阻层覆盖的基板；覆盖所述基板的所述待图案化膜层与同其相邻的所述光阻区的斜面形成空隙；

将剥离剂通过所述空隙渗入所述光阻层与所述基板之间，以将所述光阻层从所述基板上剥离，并连同覆盖于所述光阻层上的待图案化膜层同时剥离，得到图案化的膜层。

其中，所述“通过一光罩对所述光阻材料层进行图案化，得到光阻层”包括步骤：

将所述光罩设于所述光阻材料层背向所述基板一侧，且所述透镜的光面朝向所述光阻材料层；

使光线透过所述光罩对所述光阻材料层进行曝光；所述光罩上的透镜将所述光源的光线聚集并照射至所述光阻材料层；

将曝光后的所述光阻材料层进行显影，得到所述光阻层。

其中，所述光阻材料层通过喷墨打印、旋涂、或转印工艺形成，所述光阻材料层为负型光阻，图案化所述光阻材料层后得到的所述光阻层截面为倒梯形。

其中，所述光阻材料层为正型光阻。