[发明专利]一种医用钴源钴芯块镀镍方法在审

专利信息
申请号: 201711459333.0 申请日: 2017-12-28
公开(公告)号: CN108221015A 公开(公告)日: 2018-06-29
发明(设计)人: 王志斌;朱振平;房向晖;杨松涛;杨彩霞;杨勇 申请(专利权)人: 中核北方核燃料元件有限公司
主分类号: C25D5/34 分类号: C25D5/34;C25F3/02;C25D3/12
代理公司: 核工业专利中心 11007 代理人: 吕岩甲
地址: 014035 内蒙古*** 国省代码: 内蒙古;15
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摘要:
搜索关键词: 钴芯块 蚀刻 滚筒 微观粗糙度 镀镍 放入 去除 钴源 核电燃料元件 阳极电化学 表面沉积 连续转动 蚀刻溶液 填料混合 芯块表面 脱脂 钝化膜 滚镀机 结合力 蚀刻法 镀层 滚镀 滚珠 活化 镍层 油污 钴块 滚动 制造 保证
【权利要求书】:

1.一种医用钴源钴芯块镀镍方法,其特征在于:脱脂去除钴芯块表面的油污;采用阳极电化学滚动蚀刻法对钴芯块进行蚀刻活化,钴芯块与钛滚珠混在一起放入滚镀机滚筒中,滚筒在蚀刻溶液中连续转动进行蚀刻,使钴芯块表面具有一定的微观粗糙度;采用滚镀方法,即将钴芯块与填料混合放入滚筒中,使钴芯块表面沉积均匀的镍层。

2.根据权利要求1所述的医用钴源钴芯块镀镍方法,其特征在于:所述的脱脂溶液配方及工艺参数为:清洗剂清洗10~20min,清洗温度为60~70℃;热水洗1~2min,热水温度为50~60℃;室温水洗10~30s。

3.根据权利要求1所述的医用钴源钴芯块镀镍方法,其特征在于:所述的蚀刻溶液配方及工艺条件为:蚀刻溶液为盐酸与水的体积比1:10;阴极为钛板,阳极为钴块,阴极与阳极的距离为60~80mm,电流密度为0.7~1.0A/cm2,蚀刻时间为9~15min,活化时间为2~5min,蚀刻活化温度为15~30℃;滚筒转速为30r/min,钛滚珠直径为3.0mm~3.5mm,钛滚珠数量为12000~13000颗,钛滚珠填料量为滚筒体积的1/3~1/2;钴芯块的蚀刻量为2.3μm。

4.根据权利要求1所述的医用钴源钴芯块镀镍方法,其特征在于:所述的填料为3mm的不锈钢珠,填料量为滚筒体积的1/3~1/2;镀液采用瓦特型镀液,阳极为镍板,阴极为钴块,镀液温度为50~57℃,电镀正向电流0.4~0.6A/dm2,反向电流为0.02~0.03A/dm2,电镀时间为50~60min,在电镀7min时开启反向电流,镀层的厚度为10~12μm;滚筒转速为30r/min,每次电镀钴芯块数量为30~800块。

5.根据权利要求4所述的医用钴源钴芯块镀镍方法,其特征在于:所述的镀液为NiSO4·6H2O 280~300g/L,NiCl2·6H2O 30~45g/L,H3BO3 35~40g/L,十二烷基硫酸钠0.05~0.1g/L。

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