[发明专利]一种金属薄膜退镀方法及系统有效
| 申请号： | 201711459900.2 | 申请日： | 2017-12-28 |
| 公开（公告）号： | CN108103566B | 公开（公告）日： | 2021-02-02 |
| 发明（设计）人： | 桑建新;董耀宗;胡立伟 | 申请（专利权）人： | 上海冠众光学科技有限公司;苏州印象镭射科技有限公司 |
| 主分类号： | C25F5/00 | 分类号： | C25F5/00;C25F7/00 |
| 代理公司： | 上海硕力知识产权代理事务所(普通合伙) 31251 | 代理人： | 郭桂峰 |
| 地址： | 201400 上海*** | 国省代码： | 上海;31 |
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| 摘要： | |||
| 搜索关键词： | 一种 金属 薄膜 方法 系统 | ||
【权利要求书】：
1.一种金属薄膜退镀方法，其特征在于，包括：
步骤S00根据压印有全息图光栅微结构的金属薄膜的参数设置电解液的参数；
步骤S10将所述压印有全息图光栅微结构的金属薄膜放置于有所述电解液的电解电场中进行退镀；
步骤S20在预设条件下，将所述压印有全息图光栅微结构的金属薄膜的无光栅微结构区域退镀成透明状态；
其中，步骤S10中的电解电场包括电流密度设置为0-0.5安培每平方米，电压设置为2-10伏特。
2.根据权利要求1所述的金属薄膜退镀方法，其特征在于：
所述压印有全息图光栅微结构的金属薄膜的金属镀层的厚度为30纳米以下。
3.根据权利要求1所述的金属薄膜退镀方法，其特征在于，步骤S20中在预设条件下包括：
预设时间，所述预设时间设置为0-100秒。
4.根据权利要求3所述的金属薄膜退镀方法，其特征在于，步骤S20中在预设条件下还包括：
预设温度，所述预设温度设置为20-65摄氏度。
5.根据权利要求1-4任一项所述的金属薄膜退镀方法，其特征在于，步骤S20之后还包括：
步骤S30将经过退镀的所述压印有全息图光栅微结构的金属薄膜浸入水中进行清洗。
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