[发明专利]光罩、显示面板及其非显示部的制作方法

说明书

技术领域

本发明属于显示面板制作技术领域，具体地讲，涉及一种光罩、显示面板及其非显示部的制作方法。

背景技术

在低温多晶硅显示面板的制作中，显示面板的非显示部(即非显示区域)设计有平坦层沟槽，这是为了防止配向膜涂布时外溢，并能在平坦层沟槽中多涂布一些框胶，增强框胶的粘附力。然而，现有的低温多晶硅显示面板的非显示部的平坦层沟槽边缘的角度过陡，会导致平坦层之后的其他膜层的曝光和显影制程中进行光阻涂布时，平坦层沟槽边缘会形成较平坦层非沟槽区更厚的光阻，这样会导致其他膜层曝光和显影制程后，平坦层沟槽边缘仍有部分光阻残留，导致后续的湿蚀刻制程中蚀刻不掉被残留光阻挡住的部分膜层。

图1是利用现有的光罩在平坦层中形成凹槽的示意图。在图1中，光罩的全透光部10和不透光部20交替设置，这样在平坦层PLN中形成多个沟槽30。然而现有的沟槽30的槽壁与基板40的夹角a较大，会出现如上述的光阻残留。图2是现有的平坦层之后的其他膜层制作时光阻涂布的情况示意图。参照图2，在沟槽30的槽壁与基板40的连接处堆积有比平坦层PLN其他区域厚的光阻50。

发明内容

为了解决上述现有技术存在的问题，本发明的目的在于一种光罩，其包括多个全透光部和多个遮光部，所述全透光部和所述遮光部交替设置，所述遮光部包括不透光子部以及设置于所述不透光子部和所述全透光部之间的N个透光子部，所述N个透光子部的透光率沿着从所述不透光子部到所述全透光部的方向依次增大，N≥2且N为整数。

进一步地，第一个透光子部至第N个透光子部沿着从所述不透光子部到所述全透光部的方向顺序设置于所述不透光子部和所述全透光部之间。

进一步地，第i个透光子部的透光率为所述全透光部的透光率的i/(N+1)，1≤i≤N且N为整数。

本发明的另一目的还在于提供了一种显示面板，包括显示部和非显示部，所述显示部包括：基板以及设置于所述基板上的平坦层，所述平坦层中具有利用上述的光罩制作形成的多个凹槽。

进一步地，所述显示部包括阵列排布的多个像素。

本发明的又一目的又在于提供一种显示面板的非显示部的制作方法，其包括：提供一基板；在所述基板上制作形成平坦层；利用光罩在所述平坦层中形成多个凹槽，所述光罩为上述的光罩。

进一步地，利用光罩在所述平坦层中形成多个凹槽的方法包括：利用所述光罩对所述平坦层进行曝光；对曝光后的所述平坦层进行显影；对显影后的所述平坦层进行刻蚀处理，以形成多个凹槽。

本发明的有益效果：本发明通过改进光罩结构，以使利用改进后的光罩形成的非显示部的平坦层中的凹槽的槽壁平整光滑，并且该凹槽的槽壁的坡度平缓，从而不会使后续制程中不会出现光阻残留的现象。

附图说明

通过结合附图进行的以下描述，本发明的实施例的上述和其它方面、特点和优点将变得更加清楚，附图中：

图1是利用现有的光罩在平坦层中形成凹槽的示意图；

图2是现有的平坦层之后的其他膜层制作时光阻涂布的情况示意图；

图3是根据本发明的实施例的光罩的示意图；

图4是根据本发明的实施例的显示面板的平面图；

图5A至图5C是根据本发明的实施例的显示面板的非显示部的制程图；

图6是根据本发明的实施例的平坦层之后的其他膜层制作时光阻涂布的情况示意图。

具体实施方式

以下，将参照附图来详细描述本发明的实施例。然而，可以以许多不同的形式来实施本发明，并且本发明不应该被解释为限制于这里阐述的具体实施例。相反，提供这些实施例是为了解释本发明的原理及其实际应用，从而使本领域的其他技术人员能够理解本发明的各种实施例和适合于特定预期应用的各种修改。

在附图中，为了清楚起见，夸大了层和区域的厚度。相同的标号在整个说明书和附图中表示相同的元器件。

图3是根据本发明的实施例的光罩的示意图。

参照图3，根据本发明的实施例的光罩1000包括多个全透光部100和多个遮光部200，全透光部100和遮光部200交替设置。在图3中，虽然示出了三个全透光部100和两个遮光部200，但二者的数量可以根据实际需求而设定，本发明并不限制于此。