[发明专利]液体供应单元、基板处理装置及去除气泡的方法

权利要求书

1.一种基板处理装置，包括：

基板支撑单元，其被构造为支撑基板；和

液体供应单元，其被构造为将其中混合有第一液体和第二液体的处理液体供应到由所述基板支撑单元支撑的所述基板上，

其中所述液体供应单元包括：

喷嘴，其被构造成排出所述处理液体；

第一液体供应管线，其被构造成将所述第一液体供应到所述喷嘴；以及

第二液体供应管线，其被构造成将所述第二液体供应到所述喷嘴，

其中所述喷嘴包括：

主体，其在其内部具有供所述第一液体和所述第二液体混合的混合空间和从所述混合空间延伸的缓冲空间；

碰撞构件，其位于所述缓冲空间内并且被构造为降低被供应到所述缓冲空间的所述处理液体的流速；和

隔板，其被构造成将所述混合空间和所述缓冲空间彼此隔开并且具有第一孔。

2.根据权利要求1所述的基板处理装置，其中，当俯视时，所述碰撞构件与所述第一孔重叠。

3.根据权利要求2所述的基板处理装置，其中，所述碰撞构件包括：

碰撞主体，其被构造成将所述缓冲空间划分成上部空间和下部空间并且具有顶部开口容器形状，

其中被容纳在所述碰撞主体中的处理液体溢出并且被供应到所述下部空间。

4.根据权利要求3所述的基板处理装置，其中，所述主体还具有从所述下部 空间延伸并且包括排出端的排出空间，

其中所述喷嘴还包括：

下板，其被构造成将所述下部空间与所述排出空间彼此隔开且具有下孔；并且

其中当俯视时，所述下孔被定位成与所述碰撞主体重叠。

5.根据权利要求4所述的基板处理装置，其中，所述排出空间被设置成使得其下部区域的宽度小于其上部区域的宽度。

6.根据权利要求1至5中任一项所述的基板处理装置，其中，所述第一液体和所述第二液体包括在所述第一液体和所述第二液体混合时产生气泡的液体。

7.根据权利要求6所述的基板处理装置，其中，所述第一液体包括硫酸，并且

其中所述第二液体包括过氧化氢。

8.根据权利要求6所述的基板处理装置，其中，所述第一孔包括多个第一孔，

其中所述隔板还具有第二孔，

其中所述第二孔位于所述隔板的中心区域中，

其中所述第一孔被定位成围绕所述第二孔。

9.根据权利要求8所述的基板处理装置，其中，所述第一孔的直径大于所述第二孔的直径。

10.根据权利要求9所述的基板处理装置，其中，所述主体还具有第一通道和第二通道，所述第一通道延伸到所述混合空间并且第一液体供应管线连接到所述第一通道，所述第二通道延伸到所述混合空间并且第二液体供应管线连接到所述第二通道，

其中所述第一通道在与所述混合空间的内表面相邻的位置处面对向下的方向，并且

其中所述第二通道在与所述混合空间的内表面相邻的位置处沿螺旋方向设置。

11.一种用于供应混合有第一液体和第二液体的处理液体的液体供应单元，所述液体供应单元包括：

喷嘴，其被构造成排出所述处理液体；

第一液体供应管线，其被构造成将所述第一液体供应到所述喷嘴；以及

第二液体供应管线，其被构造成将所述第二液体供应到所述喷嘴，

其中所述喷嘴包括：

主体，其在其内部具有供所述第一液体和所述第二液体混合的混合空间和从所述混合空间延伸的缓冲空间；

碰撞构件，其位于所述缓冲空间内并且被构造为降低被供应到所述缓冲空间的所述处理液体的流速；和

隔板，其被构造成将所述混合空间和所述缓冲空间彼此隔开并且具有第一孔。

12.根据权利要求11所述的液体供应单元，其中当俯视时，所述碰撞构件与所述第一孔重叠。