[发明专利]一种水性纳米抛光膜涂布剂及制备方法和应用

说明书

本发明公开了一种水性纳米抛光膜涂布剂及制备方法和应用。该水性纳米抛光膜涂布剂包括如下重量百分比计的原料：水性树脂20～35％、pH调节剂0.3～0.5％、氨基硅烷偶联剂0.1～0.2％、环氧基硅烷偶联剂0.1～0.25％、分散剂0.2～0.3％、润湿剂0.2～0.3％、消泡剂0.15～0.25％、丙二醇甲醚0.5～1％、异丙醇1～2％、流平剂0.2～0.4％、防白水1～2％、防腐剂0.2～0.5％、增稠剂0.3～0.6％、水性氨基树脂4～6％、水性交联剂1～2％、水性纳米硅溶胶40～51％、去离子水余量。该水性纳米抛光膜涂布剂是一种水性健康环保新材料，且易涂布，可用于制备抛光率高、寿命长、研磨层附着力高的抛光膜。

技术领域

本发明涉及抛光材料技术领域，特别涉及一种水性纳米抛光膜涂布剂及制备方法和应用。

背景技术

超精密研磨与抛光拥有很广阔的市场，例如，在信息产业中，计算机上的芯片、磁盘和磁头，录像机上的磁鼓，复印机的感光鼓、光盘和激光头，喷墨打印机的喷墨头等都需要超精密加工才能达到产品性能要求；在民用产品中，现在小型、超小型成像设备，如微型摄像机、针孔照相机等都需要超精密研磨与抛光。光纤连接器是组成光纤系统最重要的光无源器件之一，在性能上要求其插入损耗更低、回波损耗更高，以提高光纤传输系统的可靠性。光纤连接器的研磨与抛光对其光学性能的提高起着关键作用。

目前，大多涂布剂为非反应性有机聚硅氧烷、有机溶剂和固化催化剂而得的组合物。然而，就这些涂布剂中的非反应性的有机聚硅烷、有机溶剂经时性地挥发散逸，不易燃易爆，污染环境，且涂布操作困难，且由这些涂布剂制得的抛光膜的性能(如抛光率、寿命、研磨层的附着力等)较差。

发明内容

本发明要解决的技术问题是提供一种水性纳米抛光膜涂布剂及制备方法和应用，该水性纳米抛光膜涂布剂是一种水性健康环保新材料，且易涂布，可用于制备抛光率高、寿命长、研磨层附着力高的抛光膜，为此，本还提供了一种制备该水性纳米抛光膜涂布剂的方法。

为了解决上述技术问题，本发明的技术方案为：

第一方面，本发明提供的一种水性纳米抛光膜涂布剂，包括如下重量百分比计的原料：水性树脂20～35％、pH调节剂0.3～0.5％、氨基硅烷偶联剂0.1～0.2％、环氧基硅烷偶联剂0.1～0.25％、分散剂0.2～0.3％、润湿剂0.2～0.3％、消泡剂0.15～0.25％、丙二醇甲醚0.5～1％、异丙醇1～2％、流平剂0.2～0.4％、防白水1～2％、防腐剂0.2～0.5％、增稠剂0.3～0.6％、水性氨基树脂4～6％、水性交联剂1～2％、水性纳米硅溶胶40～51％、去离子水余量。

优选的，所述水性树脂选自改性丙烯酸树脂、水性环氧树脂的一种或几种。

进一步优选的，所述水性树脂包括改性丙烯酸树脂、水性环氧树脂，其中，所述改性丙烯酸树脂与所述水性环氧树脂的重量比为5:1。

优选的，所述水性氨基树脂为低甲醚化或完全甲醚化的三聚氰胺树脂。

优选的，所述流平剂为聚醚硅氧烷共聚物溶液、有机改性聚硅氧烷溶液、非离子型表面活性剂溶液的一种或几种。

优选的，所述氨基硅烷偶联剂选自3-氨丙基三甲氧基硅烷、3-氨丙基三乙氧基硅烷、3-氨丙基甲基二乙氧基硅烷的中一种或几种。

优选的，所述环氧基硅烷偶联剂选自3-缩水甘油醚氧基丙基三甲氧基硅烷、3-缩水甘油醚氧基丙基三乙氧基硅烷、3-缩水甘油醚氧基丙基甲基二甲氧基硅烷的中一种或多种。

优选的，所述硅溶胶的粒径为40～200纳米，固含量为30～40％。

第二方面，本发明提供的一种制备如第一方面所述的水性纳米抛光膜涂布剂的方法，包括如下步骤：