[发明专利]基于多硫富瓦烯取代的螺[芴-9,9’-氧杂蒽]衍生物及其制备和应用有效

专利信息
申请号: 201711481005.0 申请日: 2017-12-29
公开(公告)号: CN108299407B 公开(公告)日: 2021-03-19
发明(设计)人: 郭鹍鹏;王忠强;李洁;吴敏;张如芹;梁效中;吴月珍;张芳 申请(专利权)人: 太原理工大学
主分类号: C07D409/14 分类号: C07D409/14;H01L51/46;H01L51/42
代理公司: 太原华弈知识产权代理事务所 14108 代理人: 李毅
地址: 030024 *** 国省代码: 山西;14
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摘要:
搜索关键词: 基于 多硫富瓦烯 取代 氧杂蒽 衍生物 及其 制备 应用
【权利要求书】:

1.一种基于多硫富瓦烯取代的螺[芴-9,9'-氧杂蒽]衍生物,所述衍生物以螺[芴-9,9'-氧杂蒽]为核,二硫富瓦烯衍生物作为外围取代基,其分子结构如结构通式(I)所示:

其中:R1,R2,R3,R4,R5,R6,R7,R8,R9,R10,R11,R12,R13,R14,R15,R16相同或不同,为氢或以下结构通式(II)所示的二硫富瓦烯衍生物取代基团,且其中至少有一个为二硫富瓦烯衍生物取代基团,

式中,Ra为C1~C18的烷基。

2.权利要求1所述基于多硫富瓦烯取代的螺[芴-9,9'-氧杂蒽]衍生物的制备方法,是以下述结构通式(III)所示的螺[芴-9,9'-氧杂蒽]的任意醛基化衍生物为原料,与结构通式(IV)所示的烷基取代二硫富瓦烯衍生物进行Horner-Wittig反应制备得到:

其中:Rb1,Rb2,Rb3,Rb4,Rb5,Rb6,Rb7,Rb8,Rb9,Rb10,Rb11,Rb12,Rb13,Rb14,Rb15,Rb16相同或不同,为氢或甲酰基,且至少有一个为甲酰基;Ra为C1~C18的烷基。

3.根据权利要求2所述的制备方法,其特征是所述螺[芴-9,9'-氧杂蒽]的任意醛基化衍生物与烷基取代二硫富瓦烯衍生物的用量摩尔比为1∶1~32。

4.权利要求1所述基于多硫富瓦烯取代的螺[芴-9,9'-氧杂蒽]衍生物作为空穴传输材料的应用。

5.根据权利要求4所述的应用,是将所述基于多硫富瓦烯取代的螺[芴-9,9'-氧杂蒽]衍生物制备成薄膜。

6.权利要求1所述基于多硫富瓦烯取代的螺[芴-9,9'-氧杂蒽]衍生物在制备钙钛矿太阳能电池中的应用。

7.根据权利要求6所述的应用,将所述基于多硫富瓦烯取代的螺[芴-9,9'-氧杂蒽]衍生物作为钙钛矿太阳能电池中非掺杂的空穴传输层。

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