[发明专利]液晶面板及其制作方法在审

专利信息
申请号: 201711483813.0 申请日: 2017-12-29
公开(公告)号: CN108051939A 公开(公告)日: 2018-05-18
发明(设计)人: 张伟基 申请(专利权)人: 深圳市华星光电技术有限公司
主分类号: G02F1/1333 分类号: G02F1/1333;G02F1/1335;G02F1/1339;G02F1/1362
代理公司: 深圳市铭粤知识产权代理有限公司 44304 代理人: 孙伟峰;阳志全
地址: 518132 广东*** 国省代码: 广东;44
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摘要:
搜索关键词: 液晶面板 及其 制作方法
【权利要求书】:

1.一种液晶面板,其特征在于,包括第一基板(10)、第二基板(20)和填充在所述第一基板(10)和所述第二基板(20)之间的液晶(30),所述第一基板(10)包括第一衬底(11)、设于所述第一衬底(11)上的子像素区域的色阻(12)、覆盖在所述色阻(12)表面的平坦层(13)以及形成在所述平坦层(13)上的BPS膜层(14),所述平坦层(13)在位于所述色阻(12)之间的非子像素区域开设有第一凹槽(130),位于所述子像素区域的所述BPS膜层(14)凸出而抵接所述第二基板(20)内表面,位于所述非子像素区域的所述BPS膜层(14)位于所述第一凹槽(130)内。

2.根据权利要求1所述的液晶面板,其特征在于,所述第一基板(10)还包括设于所述第一衬底(11)与所述平坦层(13)之间的第二金属层(M2)和设于所述平坦层(13)表面的第一像素电极层(15),所述平坦层(13)上开设有贯穿的通孔(131),所述第一像素电极层(15)部分设于所述通孔(131)内并与正下方的所述第二金属层(M2)接触。

3.根据权利要求1所述的液晶面板,其特征在于,所述第一基板(10)还包括设于所述非子像素区域的由至少两层颜色不同的色阻堆叠形成的第一增高层(16),所述第一增高层(16)及其上方的所述平坦层(13)、所述BPS膜层(14)形成与所述第二基板(20)接触的主隔垫物。

4.根据权利要求3所述的液晶面板,其特征在于,所述第一基板(10)还包括设于所述非子像素区域的单层色阻形成的第二增高层(17),所述第二增高层(17)及其上方的所述平坦层(13)、所述BPS膜层(14)形成朝向所述第二基板(20)凸起并与所述第二基板(20)间隔设置的副隔垫物。

5.根据权利要求1-4任一所述的液晶面板,其特征在于,正对所述第一凹槽(130)上方的所述BPS膜层(14)的表面凹陷设置形成第二凹槽(140)。

6.一种液晶面板的制作方法,其特征在于,包括:

提供一第一衬底(11);

在所述第一衬底(11)上方制作色阻层;

在所述色阻层和所述第一衬底(11)表面涂布平坦层(13);

对所述平坦层(13)刻蚀处理,在位于所述色阻层的色阻之间的非子像素区域的所述平坦层(13)上形成第一凹槽(130);

在所述平坦层(13)表面制作第一像素电极层(15);

在所述第一像素电极层(15)和所述平坦层(13)表面制作BPS膜层(14),并刻蚀去除位于子像素区的全部BPS材料,形成第一基板(10);

将第二基板(20)与所述第一基板(10)对位组立。

7.根据权利要求6所述的液晶面板的制作方法,其特征在于,在所述第一衬底(11)上方制作色阻层前,还包括:在所述第一衬底(11)自下而上依次制作相互绝缘的图案化的第一金属层(M1)、第二金属层(M2),所述色阻层的图案形成在所述第一金属层(M1)、所述第二金属层(M2)的正上方;对所述平坦层(13)刻蚀处理时,还包括:在所述平坦层(13)上开设贯穿的通孔(131),所述第一像素电极层(15)部分制作在所述通孔(131)内并与正下方的所述第二金属层(M2)接触。

8.根据权利要求6所述的液晶面板的制作方法,其特征在于,在所述第一衬底(11)上方制作色阻层时,包括分别制作位于子像素区域的色阻(12)和位于非子像素区域的由至少两层颜色不同的色阻堆叠形成的第一增高层(16);所述第一增高层(16)上方的所述BPS膜层(14)与所述第二基板(20)接触。

9.根据权利要求8所述的液晶面板的制作方法,其特征在于,在所述第一衬底(11)上方制作色阻层时,还包括制作位于非子像素区域的单层色阻形成的第二增高层(17),所述第二增高层(17)上方的所述BPS膜层(14)朝向所述第二基板(20)凸起并与所述第二基板(20)间隔设置。

10.根据权利要求6-9任一所述的液晶面板的制作方法,其特征在于,在所述第一像素电极层(15)和所述平坦层(13)表面制作BPS膜层(14)后,在正对所述第一凹槽(130)上方的所述BPS膜层(14)的表面制作第二凹槽(140)。

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