[发明专利]双功能反应炉

权利要求书

1.一种双功能反应炉，其特征在于，所述双功能反应炉用于待处理基底表面材料层的生长及刻蚀，所述双功能反应炉包括：

用于放置待处理基底的炉管；

炉体，位于所述炉管外围；

加热装置，位于所述炉体内，且位于所述炉管外围；

与所述炉管内部相连通，且用于向所述炉管内通入生长气体、生长液体、刻蚀气体及刻蚀液体中的至少一者的进口组件；

出口，与所述炉管内部相连通；

用于将所述炉管与外部连通或隔离，并向所述炉管内传入或传出所述待处理晶圆的炉门组件，所述炉门组件位于所述炉管的至少一端部。

2.根据权利要求1所述的双功能反应炉，其特征在于：所述进口组件包括：

与所述炉管内部相连通，且用于向所述炉管内通入生长气体或生长液体的第一进口；

与所述炉管内部相连通，且用于向所述炉管内通入刻蚀气体或刻蚀液体的第二进口。

3.根据权利要求1所述的双功能反应炉，其特征在于：所述进口组件包括：

与所述炉管内部相连通，且用于向所述炉管内通入生长气体的第一进口；

与所述炉管内部相连通，且用于向所述炉管内通入生长液体的第二进口；

与所述炉管内部相连通，且用于向所述炉管内通入刻蚀气体的第三进口；

与所述炉管内部相连通，且用于向所述炉管内通入刻蚀液体的第四进口。

4.根据权利要求1所述的双功能反应炉，其特征在于：所述炉管为卧式管式炉或立式管式炉。

5.根据权利要求1所述的双功能反应炉设备，其特征在于：所述炉门组件包括：

装卸传送系统，所述装卸传送系统包括滑轨及用于放置所述待处理基底的承载台，所述滑轨位于所述炉管一端外侧；所述承载台位于所述滑轨上，且可在所述滑轨上滑动；

炉门，所述炉门固定于所述承载台远离所述炉管的一侧，且所述炉门至所述承载台靠近所述炉管一侧的距离小于所述炉管的长度，以确保所述承载台移至所述炉管内时所述炉门将所述炉管与外部隔离。

6.根据权利要求1所述的双功能反应炉，其特征在于：所述炉门组件包括：

炉门，所述炉门的一边与所述炉体活动连接，所述炉门打开时，所述炉管与外部相连通，所述炉门关闭时，所述炉管与外部隔离；

用于向所述炉管内传送所述待处理基底，并将处理完毕后的所述待处理基底传送出所述炉管的装卸传送系统，所述装卸传送系统位于所述炉门一侧。

7.根据权利要求6所述的双功能反应炉，其特征在于：所述装卸传送系统包括直角坐标式机械手、球坐标式机械手、关节式机械手或圆柱坐标式机械手的至少一种。

8.根据权利要求5至7中任一项所述的双功能反应炉，其特征在于：所述炉门组件还包括：

法兰，位于所述炉门与所述炉体之间，且套置于所述炉管靠近所述炉门一端的外围；

密封圈，位于所述法兰与所述炉门之间。

9.根据权利要求1所述的双功能反应炉，其特征在于：所述加热装置分多段环布于所述炉管外围，以将所述炉管分为多个加热区域。

10.根据权利要求9所述的双功能反应炉，其特征在于：所述炉管内包括一恒温区，所述恒温区的长度占所述炉管总长度的1/3～1。

11.根据权利要求1所述的双功能反应炉，其特征在于：所述双功能反应炉还包括：

用于提供生长气体、生长液体、刻蚀气体及刻蚀液体中的至少一者的供给源；

第一管路，一端与所述供给源相连接，另一端与所述进口组件相连接；

动力泵；

第二管路，一端与所述动力泵相连接，另一端与所述出口相连接。