[发明专利]一种石墨烯/碳化硅纳米复合结构单片陶瓷及其制备方法有效
申请号: | 201711494377.7 | 申请日: | 2017-12-31 |
公开(公告)号: | CN108129151B | 公开(公告)日: | 2020-02-18 |
发明(设计)人: | 姚荣迁;周瑞;郑艺浓;廖亮;钟磊;陈增;黄雯燕 | 申请(专利权)人: | 厦门大学 |
主分类号: | C04B35/571 | 分类号: | C04B35/571;C04B35/622 |
代理公司: | 厦门南强之路专利事务所(普通合伙) 35200 | 代理人: | 马应森 |
地址: | 361005 *** | 国省代码: | 福建;35 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 一种 石墨 碳化硅 纳米 复合 结构 单片 陶瓷 及其 制备 方法 | ||
1.一种石墨烯/碳化硅纳米复合结构单片陶瓷的制备方法,其特征在于包括以下步骤:
1)先驱体PCS(GOx)的合成
将GO粉末混入去离子水中并超声分散,再将PCS和Karstedt催化剂溶解于二甲苯有机溶剂,随后将PCS/二甲苯混合物加入GO水溶液,再向混合液中加VTES,用稀盐酸将其调节至酸性;随后将混合溶液水浴加热,同时进行磁力搅拌,静置后取上层液通过旋转蒸发仪进行减压蒸馏,得到黑色固体并研磨,获得精细先驱体PCS(GOx)粉末产物,x为PCS、GO的质量比;
2)石墨烯/碳化硅纳米复合结构单片陶瓷SiC(rGOx)的制备
将步骤1)所得PCS(GOx)粉末压成生坯,将其放置于石墨纸上,在惰性气体保护下热解,得石墨烯/碳化硅纳米复合结构单片陶瓷SiC(rGOx);PCS经过高温裂解生成SiC,GO经过高温终烧还原为rGO。
2.如权利要求1所述一种石墨烯/碳化硅纳米复合结构单片陶瓷的制备方法,其特征在于在步骤1)中,所述PCS、GO的质量比为10︰(1~5),所述Karstedt催化剂、VTES的体积比为1︰(2~4)。
3.如权利要求1所述一种石墨烯/碳化硅纳米复合结构单片陶瓷的制备方法,其特征在于在步骤1)中,所述二甲苯的用量 为15~25mL;所述去离子水的用量为15~25mL;所述稀盐酸用量为5mL,使pH值为2~4。
4.如权利要求1所述一种石墨烯/碳化硅纳米复合结构单片陶瓷的制备方法,其特征在于在步骤1)中,所述水浴加热的温度为70℃,水浴加热的时间为1h。
5.如权利要求1所述一种石墨烯/碳化硅纳米复合结构单片陶瓷的制备方法,其特征在于在步骤1)中,所述磁力搅拌的频率为20rpm。
6.如权利要求1所述一种石墨烯/碳化硅纳米复合结构单片陶瓷的制备方法,其特征在于在步骤2)中,所述将步骤1)所得PCS(GOx)粉末压成生坯采用油压机将步骤1)所得PCS(GOx)粉末在钢制模型中压成生坯。
7.如权利要求6所述一种石墨烯/碳化硅纳米复合结构单片陶瓷的制备方法,其特征在于所述油压机使用力度为100MPa;所述钢制模型直径为10~20mm。
8.如权利要求1所述一种石墨烯/碳化硅纳米复合结构单片陶瓷的制备方法,其特征在于在步骤2)中,所述惰性气体为氩气,流量控制在150~250mL/min。
9.如权利要求1所述一种石墨烯/碳化硅纳米复合结构单片陶瓷的制备方法,其特征在于在步骤2)中,所述热解温度为1300~1500℃,升温速率5℃/min,保温时间20~40min。
10.如权利要求1所述一种石墨烯/碳化硅纳米复合结构单片陶瓷的制备方法制备的石墨烯/碳化硅纳米复合结构单片陶瓷。
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