[发明专利]一种给水处理装置及处理方法

权利要求书

1.一种给水处理装置，包括预处理模块、污泥处理模块、砂滤池、深度处理模块和清水池，其特征在于，所述预处理模块与所述砂滤池连接，所述砂滤池与所述深度处理模块连接，所述深度处理模块与所述清水池连接；所述预处理模块、砂滤池和深度处理模块与污泥处理模块连接，所述污泥处理模块通过管道与所述预处理模块的入口连接；所述预处理模块、砂滤池、深度处理模块与污泥处理模块毗邻设置，并且所述预处理模块、砂滤池和深度处理模块位于所述污泥处理模块上部，所述预处理模块、砂滤池和深度处理模块与污泥处理模块通过渠道连接。

2.根据权利要求1所述的一种给水处理装置，其特征在于，所述预处理模块包括预臭氧接触池、混合池、絮凝反应池和气浮沉淀池，所述预臭氧接触池与混合池相邻，且在池底部通过连通口连通；所述混合池与所述絮凝反应池相邻，且在池顶通过联通渠连通，所述絮凝反应池与所述气浮沉淀池相邻，且在池底通过穿孔花墙联通。

3.根据权利要求2所述的一种给水处理装置，其特征在于，所述预臭氧接触池上设置预臭氧投加装置和尾气破坏装置。

4.根据权利要求1所述的一种给水处理装置，其特征在于，所述气浮沉淀池包括池体、穿孔花墙、溶气水释放器、斜板装置、气浮集水管、排渣槽、刮渣机、刮泥机、积泥坑、排泥阀、沉淀出水堰、沉淀出水渠、气浮出水渠；所述穿孔花墙共设置2个，其中1个设于池体进水端底部侧墙，高度为池体高度的1/6，另外1个设于池体出水端斜板装置的尾部侧墙，高度为池体高度的1/2；所述溶气水释放器设于池体进水端底部穿孔花墙旁；所述斜板装置设于池内水面之下，长度为池体长度的2/3，高度为池体高度的1/2；所述气浮集水管紧贴斜板装置的底部设置，与气浮出水渠连接；所述排渣槽设于池体尾部，槽口位于水面上；所述刮渣机设于池体顶部的轨道上，所述刮渣机的底部设置刮板与水面接触，在运动过程中将水面的浮渣刮至排渣槽；所述刮泥机紧贴池体的底部设置，位于气浮集水管下部，所述刮泥机的底部设置刮板与所述池底表面接触，在运动过程中将池底污泥刮至积泥坑；所述排泥阀设于积泥坑底部；所述沉淀出水堰设于池体尾端，与池体尾端的穿孔花墙连接；所述气浮出水渠与沉淀出水堰相邻。

5.根据权利要求1所述的一种给水处理装置，其特征在于，所述深度处理模块包括主臭氧接触池、生物活性炭滤池和消毒接触池，所述所述主臭氧接触池、生物活性炭滤池、消毒接触池依次毗邻且通过连通渠相连。

6.根据权利要求1所述的一种给水处理装置，其特征在于，所述污泥处理模块包括反冲洗废水沉淀池、排渣排泥沉淀池、浮渣脱气池、污泥浓缩池和污泥储池；所述反冲洗废水沉淀池、排渣排泥沉淀池、浮渣脱气池、污泥浓缩池和污泥储池依次毗邻设置且位于气浮沉淀池下方。

7.一种给水处理方法，基于权利要求1-6任一所述的给水处理装置，其包括的步骤如下：原水依次流经预臭氧接触池、混合池、絮凝反应池、气浮沉淀池、砂滤池、主臭氧接触池、生物活性炭滤池、消毒接触池和清水池，其特征在于，

(1)当原水浊度在0～70NTU的较低情况、或藻类含量大于等于6千万个/L的较高情况时，气浮沉淀池运行气浮工艺：絮凝反应池的出水进入气浮沉淀池，然后与溶气水释放器所释放的溶气水混合，絮体粘附溶气水释放的微小气泡后上浮至液面形成浮渣，与絮体分离后的清水经由气浮集水管收集后进入气浮出水渠，气浮出水渠的出水再进入砂滤池进行处理；

(2)当原水浊度大于70NTU的较高情况时，气浮沉淀池切换运行沉淀工艺：絮凝反应池絮凝反应后的水进入气浮沉淀池，然后流经斜板装置，絮体在斜板装置的阻挡下，滑至池底形成积泥，积泥由池底的刮泥机刮至池末端的积泥坑内，积泥坑底部的排泥阀打开，将积泥排至排渣排泥沉淀池；而与絮体分离的清水流经斜板装置后，流经池末端的穿孔花墙进入沉淀出水堰，再经由沉淀出水堰进入沉淀出水渠，沉淀出水渠的出水再进入砂滤池进行处理。