[发明专利]一种塑胶镀层PVD工艺及塑胶镀层结构在审
申请号: | 201711496895.2 | 申请日: | 2017-12-31 |
公开(公告)号: | CN109989043A | 公开(公告)日: | 2019-07-09 |
发明(设计)人: | 蒋贵霞;贾建国 | 申请(专利权)人: | 昆山英利悦电子有限公司 |
主分类号: | C23C14/35 | 分类号: | C23C14/35;C23C14/20;C23C14/16;C23C14/06;C23C28/00 |
代理公司: | 暂无信息 | 代理人: | 暂无信息 |
地址: | 215300 江苏省苏*** | 国省代码: | 江苏;32 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 塑胶基体 塑胶 镀层 沉积 夹具 磁控溅射 钛金属层 铬层 离子镀工艺 导电性 表面清洁 产品生产 镀层结构 钝化处理 附着力强 金属膜层 碳化铬层 铜金属层 性能要求 结合力 离子镀 纯铬 放入 缸液 活化 良率 镍层 清洁 | ||
1.一种塑胶镀层PVD工艺,其特征在于,包括:
步骤一:对塑胶基体进行表面清洁处理,并将清洁完毕的塑胶基体装在夹具上;
步骤二:对夹具上的塑胶基体进行磁控溅射离子镀处理,使塑胶基体沉积一层钛金属层;
步骤三:进行磁控溅射离子镀工艺,使钛金属层上依次沉积一层铜金属层、镍层、铬层、碳化铬层;
步骤四:将经过步骤三处理后的塑胶基体进行活化或钝化处理;
步骤五:将经过步骤四处理后的塑胶基体放入纯铬缸液中,以获得铬层。
2.根据权利要求1所述的塑胶镀层PVD工艺,其特征在于,在步骤二中磁控溅射离子镀处理时间为200-300秒;
根据权利要求2所述的塑胶镀层PVD工艺,其特征在于,在步骤二中沉积的钛金属层膜层厚度约0.1-0.2um之间。
3.一种塑胶镀层结构,其特征在于:其包含塑胶基体、所述塑胶基体上覆盖有物理气相沉积金属膜层,物理气相沉积金属膜层上覆盖有铜层,铜层上覆盖有镍层,镍层上覆盖有铬层。
4.根据权利要求4所述的塑胶镀层结构,其特征在于:所述物理气相沉积金属膜层包括钛金属层与铜金属层,所述钛金属层覆盖在塑胶基体上,所述铜金属层覆盖在钛金属层上。
5.根据权利要求4或5所述的塑胶镀层结构,其特征在于:所述镍层设有多层。
6.根据权利要求4或5所述的塑胶镀层结构,其特征在于:所述铬层为纯铬。
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