[发明专利]基于等离子体开关的横向激励CO2激光窄脉冲产生装置在审
| 申请号： | 201711498686.1 | 申请日： | 2017-12-29 |
| 公开（公告）号： | CN108155541A | 公开（公告）日： | 2018-06-12 |
| 发明（设计）人： | 柯常军;吴天昊;孔心怡 | 申请（专利权）人： | 中国科学院电子学研究所 |
| 主分类号： | H01S3/00 | 分类号： | H01S3/00;H01S3/0971 |
| 代理公司： | 中科专利商标代理有限责任公司 11021 | 代理人： | 任岩 |
| 地址： | 100190 *** | 国省代码： | 北京;11 |
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| 摘要： | |||
| 搜索关键词： | 等离子体开关 聚焦透镜 窄脉冲产生装置 横向激励 窄脉冲 拖尾 激光 等离子体 等离子体吸收 固体材质 激光脉冲 同轴设置 准直透镜 低功率 焦点处 聚焦 输出 压缩 | ||
1.一种基于等离子体开关的横向激励(TE)CO2激光窄脉冲产生装置，包括：
聚焦透镜；
等离子体开关，由固体材质构成，位于所述聚焦透镜的焦点处，其上具有一孔，TE CO2激光经所述聚焦透镜聚焦在所述等离子体开关的所述孔处形成等离子体，TE CO2激光的拖尾部分被所述等离子体吸收，从而产生激光窄脉冲；以及
准直透镜，与所述聚焦透镜同轴设置，用于将所述激光窄脉冲准直后输出。
2.根据权利要求1所述的横向激励CO2激光窄脉冲产生装置，其中，TE CO2激光的拖尾部分被所述等离子体吸收，即得到整形后的激光脉冲；通过改变所述聚焦透镜与所述孔的位置控制整形后的激光脉冲宽度。
3.根据权利要求1所述的横向激励CO2激光窄脉冲产生装置，其中，所述等离子体开关上的所述孔的孔径小于激光焦斑尺寸。
4.根据权利要求1所述的横向激励CO2激光窄脉冲产生装置，其中，所述等离子体开关的材质为金属。
5.根据权利要求1所述的横向激励CO2激光窄脉冲产生装置，其中，所述等离子体开关的材质为黄铜、铝或不锈钢。
6.根据权利要求1所述的横向激励CO2激光窄脉冲产生装置，还包括：TE CO2激光器，用于输出所述TE CO2激光。
7.根据权利要求1所述的横向激励CO2激光窄脉冲产生装置，其中，所述TE CO2激光器输出的激光波长为10.6μm、10.3μm、9.6μm或9.3μm，激光介质为CO2、N2和He的混和气。
8.根据权利要求1所述的横向激励CO2激光窄脉冲产生装置，其中，所述聚焦透镜和准直透镜均为ZnSe透镜。
9.根据权利要求8所述的横向激励CO2激光窄脉冲产生装置，其中，所述聚焦透镜和准直透镜的焦距相同，聚焦透镜和准直透镜之间的间距为所述聚焦透镜的焦距的2倍。
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