[实用新型]一种用于中子散射实验的温度加载装置

权利要求书

1.一种用于中子散射实验的温度加载装置，其特征在于：所述的装置包括加热炉、平移样品台、气动升降支架；所述的加热炉包括炉体腔体（1）、入射窗口板（2）、出射窗口板（3）、水冷管（4），所述的平移样品台包括伺服电缸（5）、样品台面（6）、样品台底座（12），所述的气动升降支架包括升降气缸（7）、高位置限位开关（8）、低位置限位开关（9）、活动支架（10）、升降底座（11）；

所述的炉体腔体（1）上开设中子入射孔、中子出射孔，底部开设样品装入孔；其连接关系是，入射窗口板（2）、出射窗口板（3）依次固定在炉体腔体（1）的中子入射孔、中子出射孔的外部，水冷管（4）安装在炉体腔体（1）的样品装入孔的外部周边；样品台面（6）固定安装在伺服电缸（5）上，伺服电缸（5）安装在样品台底座（12）上，样品台底座（12）安装在地面上；活动支架（10）与升降气缸（7）的活动端连接，高位置限位开关（8）、低位置限位开关（9）从上至下固定安装在升降气缸（7）的行程高位置、低位置，升降气缸（7）安装在升降底座（11）上； 炉体腔体（1）上部与活动支架（10）固定连接，升降底座（11）安装在伺服电缸（5）侧面的地面上，炉体腔体（1）位于样品台面（6）的正上方。

2.根据权利要求1所述的用于中子散射实验的温度加载装置，其特征在于：所述的炉体腔体（1）为一长方体，内部铺设加热丝，并填充保温纤维材料。

3.根据权利要求1所述的用于中子散射实验的温度加载装置，其特征在于：所述的样品台面（6）上有N个样品固定支架，相邻样品固定支架的间距L与炉体腔体（1）的宽度W之间的关系满足：L-0.5W≥20mm。

4.根据权利要求1所述的用于中子散射实验的温度加载装置，其特征在于：所述的伺服电缸（5）在水平方向平移，平移方向与中子束流垂直，伺服电缸（5）的行程范围S=N×L。

5.根据权利要求1所述的用于中子散射实验的温度加载装置，其特征在于：所述的升降气缸（7）为单活塞杆气缸，当压缩气体进入时，升降气缸（7）带动活动支架（10）上升至活动支架（10）触碰到高位置限位开关（8）后停止；压缩气体供给中断后，升降气缸（7）带动活动支架（10）下降至活动支架（10）触碰到低位置限位开关（9）后停止，炉体腔体（1）底部的水冷管（4）位于样品台面（6）上方的1mm处。