[实用新型]一种检测透明材料表面和内部缺陷的暗场显微成像装置有效
| 申请号： | 201720017403.6 | 申请日： | 2017-01-09 |
| 公开（公告）号： | CN206339496U | 公开（公告）日： | 2017-07-18 |
| 发明（设计）人： | 刘乾;袁道成;吉方;何建国 | 申请（专利权）人： | 中国工程物理研究院机械制造工艺研究所 |
| 主分类号： | G01N21/88 | 分类号： | G01N21/88 |
| 代理公司： | 中国工程物理研究院专利中心51210 | 代理人： | 翟长明,韩志英 |
| 地址： | 621999 四*** | 国省代码： | 四川;51 |
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| 摘要： | |||
| 搜索关键词： | 一种 检测 透明 材料 表面 内部 缺陷 暗场 显微 成像 装置 | ||
【权利要求书】：
1.一种检测透明材料表面和内部缺陷的暗场显微成像装置，其特征在于：所述的暗场显微成像装置包括暗场照明单元、遮挡物（7）、成像显微镜（8）；所述的暗场照明单元由光源（1）和照明镜头（2）组成，光源（1）、照明镜头（2）、遮挡物（7）、成像显微镜（8）依次设置在同轴光路上；待检测的透明材料（4）设置于照明镜头（2）与遮挡物（7）之间位于成像显微镜（8）的成像面上；所述的光源（1）发出的照明直射光（3）依次经照明镜头（2）、透明材料（4）后照射在遮挡物（7）上；所述的照明直射光（3）射在遮挡物（7）上的光斑小于遮挡物（7）的尺寸；所述的遮挡物（7）的尺寸小于成像显微镜（8）内第一面透镜的尺寸。
2.根据权利要求1所述的暗场显微成像装置，其特征还在于：所述的遮挡物（7）采用吸光型遮挡物、凹面状遮挡物、锥形遮挡物、有角度反射遮挡物、凸面状遮挡物中的一种。
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