[实用新型]激光镭射膜电晕处理装置

说明书

技术领域

本实用新型涉及印刷设备制造技术领域，具体涉及一种激光镭射膜电晕处理装置。

背景技术

电晕处理是一种电击处理，它使塑料薄膜的表面具有更高的附着性，从而方便在塑料薄膜上印刷色彩、图案。电晕处理的原理是利用高频率高电压在被处理的塑料薄膜表面电晕放电，而产生低温等离子体，使塑料薄膜表面产生游离基反应而使聚合物发生交联，表面变粗糙并增加其对极性溶剂的润湿性。

目前主要是采用电晕机高压放电，使材料表面极化的方式，改变薄膜表面的附着性能。目前工业上的电晕机往往由于放电所产生的低温等离子浓度不够高和均匀，导致无法达到预期的效果。并且薄膜表面经过电晕处理之后及其不稳定，与空气接触容易出现氧化等现象，从而影响后续的加工处理。

实用新型内容

本实用新型所要解决的技术问题是针对上述现有技术提供一种激光镭射膜电晕处理装置，不仅能提高电晕处理的效果，而且可以避免电晕后薄膜与空气接触产生氧化现象，提高薄膜的生产质量。

本实用新型解决上述问题所采用的技术方案为：一种激光镭射膜电晕处理装置，它包括用于对激光镭射膜进行输送导向的辊轴、用于对激光镭射膜进行电晕处理的电晕发生器和真空保护箱，所述真空保护箱位于电晕发生器和后道处理机构之间，所述真空保护箱外接真空泵，所述电晕发生器包括底部有缺口的真空辐射管，在所述真空辐射管的中心为设置有底部有开口的电子光学管，在所述电子光学管的中心线上设置有阴极管，在所述真空辐射管的底部缺口两侧安装有阳极板，所述真空辐射管的底部通过密封罩将缺口封住，且在密封罩上开设有电子束孔。

与现有技术相比，本实用新型的优点在于：

1、电晕发生器在真空状态下产生大量的加速电子束，其离子浓度大大提高，电晕效果得到明显改善；

2、电晕处理后的镭射膜经过真空保护箱后进入到后道处理结构进行印刷或涂布处理，减少了与空气接触的时间，避免电晕膜表面出现不稳定的现象，大大提高了印刷或涂布的效果。

附图说明

图1为本实用新型的结构示意图。

图2为本实用新型中电晕发生器的结构示意图。

具体实施方式

以下结合附图实施例对本实用新型作进一步详细描述。

如图1，2所示，本实用新型涉及一种激光镭射膜电晕处理装置，包括用于对激光镭射膜进行输送导向的辊轴1、用于对激光镭射膜进行电晕处理的电晕发生器2和真空保护箱3，所述真空保护箱3位于电晕发生器2和后道处理机构之间，激光镭射膜从真空保护箱3穿过后直接进入后道处理机构进行印刷或涂布处理，所述真空保护箱3外接真空泵4，确保箱体内的真空度，防止电晕后镭射膜与空气接触，所述电晕发生器2包括底部有缺口的真空辐射管2.1，在所述真空辐射管2.1的中心为设置有底部有开口的电子光学管2.2，在所述电子光学管2.2的中心线上设置有阴极管2.3，在所述真空辐射管2.1的底部缺口两侧安装有阳极板2.4，在电子光学管的作用下在阴极管和阳极板之间形成大量的加速电子，所述真空辐射管2.1的底部通过密封罩5将缺口封住，且在密封罩5上开设有电子束孔5.1，大量的加速电子由电子束孔5.1射出后到达膜表面进行电晕处理，由于用于电晕处理的电子是在真空状态下产生，因此其含量高，对于提高电晕处理有明显的效果。

除上述实施例外，本实用新型还包括有其他实施方式，凡采用等同变换或者等效替换方式形成的技术方案，均应落入本实用新型权利要求的保护范围之内。