[实用新型]一种动态电弧生长仪有效
申请号: | 201720021514.4 | 申请日: | 2017-01-09 |
公开(公告)号: | CN206396323U | 公开(公告)日: | 2017-08-11 |
发明(设计)人: | 陈海勇;陈熙野;姜志刚 | 申请(专利权)人: | 吉林大学 |
主分类号: | C23C16/27 | 分类号: | C23C16/27 |
代理公司: | 北京轻创知识产权代理有限公司11212 | 代理人: | 谈杰 |
地址: | 130021 吉林*** | 国省代码: | 吉林;22 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 一种 动态 电弧 生长 | ||
1.一种动态电弧生长仪,其特征在于,包括高压正极、高压负极、控制处理器、第一IGBT、第二IGBT、限流电阻、正钨电极杆组和负钨电极杆组,所述正钨电极杆组包括第一钨电极杆、第二钨电极杆、第三钨电极杆、第四钨电极杆、第五钨电极杆和第六钨电极杆,所述负钨电极杆组包括第七钨电极杆、第八钨电极杆、第九钨电极杆、第十钨电极杆、第十一钨电极杆和第十二钨电极杆,正钨电极杆组和负钨电极杆组交叉排列,并构成放电单元二维点阵,正钨电极杆组和负钨电极杆组为上下交叉,两个钨电极杆组之间的间隙为d,正钨电极杆组为竖向排列,正钨电极杆组依次通过限流电阻、第一IGBT和高压正极相连,负钨电极杆组为横向排列,负钨电极杆组通过第二IGBT与高压负极相连,所述控制处理器分别与第一IGBT和第二IGBT相连。
2.根据权利要求1所述一种动态电弧生长仪,其特征在于,正钨电极杆组和负钨电极杆组中,相邻两钨电极杆的间距为4mm,每个钨电极杆的直径为1mm。
3.根据权利要求1所述一种动态电弧生长仪,其特征在于,两个钨电极杆组之间的间隙d为1mm。
4.根据权利要求1所述一种动态电弧生长仪,其特征在于,高压正极为1千伏高压正极,高压负极为1千伏高压负极。
5.根据权利要求1所述一种动态电弧生长仪,其特征在于,第一IGBT和第二IGBT的放电频率为40KHz。
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C23C 对金属材料的镀覆;用金属材料对材料的镀覆;表面扩散法,化学转化或置换法的金属材料表面处理;真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆
C23C16-00 通过气态化合物分解且表面材料的反应产物不留存于镀层中的化学镀覆,例如化学气相沉积
C23C16-01 .在临时基体上,例如在随后通过浸蚀除去的基体上
C23C16-02 .待镀材料的预处理
C23C16-04 .局部表面上的镀覆,例如使用掩蔽物的
C23C16-06 .以金属材料的沉积为特征的
C23C16-22 .以沉积金属材料以外之无机材料为特征的