[实用新型]一种研磨抛光机的一键清洗装置有效
申请号: | 201720021814.2 | 申请日: | 2017-01-06 |
公开(公告)号: | CN206344013U | 公开(公告)日: | 2017-07-21 |
发明(设计)人: | 王华;陈泊霖 | 申请(专利权)人: | 东莞市玮明实业有限公司 |
主分类号: | B24B37/34 | 分类号: | B24B37/34;B24B55/06 |
代理公司: | 深圳市千纳专利代理有限公司44218 | 代理人: | 易朝晖 |
地址: | 523000 广东省东莞*** | 国省代码: | 广东;44 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 一种 研磨 抛光机 清洗 装置 | ||
技术领域
本实用新型涉及一种研磨抛光设备的清洗技术,具体是一种研磨抛光机的一键清洗装置。
背景技术
磨抛生产线除了对加工精度有具体要求之外,还非常注重对研磨完成后的清洗,这是因为:(1)如果工件研磨抛光好后没有清洗,一些化学残留物质留存在工件表面,一段时间后工件,化学物质与空气中的氧气等气体会发生反应,导致表面出现斑点之类的东西。(2)在前一轮的研磨过程中,因为有研磨液、抛光液等的加入,使得设备上粘附残留了一部分的颗粒,这些颗粒有大有小,如果研磨后不对其进行处理的话,在第二轮研磨中就会对新的工件产生划伤。
所以通常在研磨完成后,需要停机对磨盘等机器配件进行彻底清洗,以免影响后续的研磨抛光效果。现有技术是利用人工手动拿着水管或其他手动的方式一点一点对设备进行冲洗,这使得磨抛加工的一次生产周期过长,浪费了大量人工及浪费大量的水,严重影响了生产效率。
实用新型内容
本实用新型为了弥补上述现有技术的不足之处,提供了一种研磨抛光机的一键清洗装置。
为了实现上述目的,本实用新型采用了如下的技术方案。
一种研磨抛光机的一键清洗装置,包括与外部水源相连的水箱和用于喷淋清洗磨抛工作台的喷淋头,水箱和喷淋头之间具有通过水泵连接构成供水管路,水箱内设有高水位传感器和低水位传感器,水箱与外部水源之间设有与高水位传感器和低水位传感器连接的水箱控制阀,磨抛工作台下方设有集水盆,集水盆的排水口设有通向水箱的回流管,水箱的排水口通过排废控制阀连接设有排废管。
与现有技术相比,本实用新型的有益效果在于:能够自动识别水箱内的水位高低,据此实现自动补充水位、自动排废水、自动清洗磨抛工作台、清洗管路、清洗水箱等一系列工作,大幅度缩短了生产周期,而且节省了大量人工,节约用水,提高了生产效率。
附图说明
图1是本实用新型的结构示意图。
具体实施方式
如图1所示,一种研磨抛光机的一键清洗装置,包括与外部水源1相连的水箱2和用于喷淋清洗磨抛工作台3的喷淋头4,水箱2和喷淋头4之间具有通过水泵5连接构成供水管路,水箱2内设有高水位传感器21和低水位传感器22,水箱2与外部水源1之间设有与高水位传感器21和低水位传感器22连接的水箱控制阀23,磨抛工作台3下方设有集水盆5,集水盆5的排水口设有通向水箱2的回流管51,水箱2的排水口通过排废控制阀24连接设有排废管6。
采用上述方案,能够自动识别水箱内的水位高低,据此实现自动补充水位、自动排废水、自动清洗磨抛工作台、清洗管路、清洗水箱等一系列工作,大幅度缩短了生产周期,而且节省了大量人工,提高了生产效率。
在较佳的实施方式中,外部水源1具有主管路控制阀11,以此实现外部水源的供水总开关,在系统内部水循环正常时,能有效避免外部水源出现浪费。
作为上述较佳实施方式的进一步改进,水箱2内设有与水箱控制阀23连接的水槽喷头7,以此可以分别实现外部水源供水、外部水源清洗水箱、内部循环清洗水箱。
作为上述较佳实施方式的进一步改进,外部水源1与喷淋头4之间通过第一喷淋控制阀41构成供水管路,以此可以分别实现外部水源清洗和内部循环清洗磨抛工作台两种模式。
进一步的,喷淋头4与水泵5之间通过第二喷淋控制阀42连接,当内部循环水量不足时直接关闭第二喷淋控制阀,同时开启第一喷淋控制阀采用外部水源供水进行清洗。
作为上述较佳实施方式的进一步改进,回流管51通过第一回流控制阀52与水箱2连接,通过开闭第一回流控制阀可以选择清洗后的废水重新流入水箱实现循环利用,或直接排放。比如按循环次数对第一回流控制阀进行控制,超过循环次数的废水视为无循环利用价值,打开第一回流控制阀进行排放。
进一步的,回流管51通过第二回流控制阀53与排废管6连接,这是对循环利用或直接排放的进一步有效控制。
作为上述较佳实施方式的进一步改进,外部水源2是自来水管路,当然也可以选用其他可用水源,比如工厂的生产用水循环系统。
对于本领域的技术人员来说,可根据本实用新型所揭示的结构和原理获得其它各种相应的改变以及变形,而所有的这些改变以及变形都属于本实用新型的保护范畴。
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