[实用新型]一种可常温控温的晶体炉装置有效

专利信息
申请号: 201720025040.0 申请日: 2017-01-10
公开(公告)号: CN206387263U 公开(公告)日: 2017-08-08
发明(设计)人: 刘建丽;翟泽辉 申请(专利权)人: 山西大学
主分类号: F27B17/02 分类号: F27B17/02;F27D1/00
代理公司: 山西五维专利事务所(有限公司)14105 代理人: 张福增
地址: 030006 山*** 国省代码: 山西;14
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摘要:
搜索关键词: 一种 温控 晶体 装置
【权利要求书】:

1.一种可常温控温的晶体炉装置,其特征在于,包括晶体炉盖板(1)、晶体炉炉体(2)、制冷元件(3)、散热底座(4)、第一铟箔片(5)、第二铟箔片(6)、第三铟箔片(7)、第四铟箔片(8)和保温罩(9);第一铟箔片(5)和第二铟箔片(6)依次放置在晶体炉盖板(1)和晶体炉炉体(2)之间,第三铟箔片(7)放置在晶体炉炉体(2)和制冷元件(3)之间,第四铟箔片(8)放置在制冷元件(3)和散热底座(4)之间;晶体炉盖板(1)由尼龙螺丝固定在晶体炉炉体(2)上,晶体炉炉体(2)由尼龙螺丝固定在散热底座(4)上,保温罩(9)由尼龙螺丝固定在散热底座(4)上;待控温的晶体放置在晶体炉炉体(2)上的凹槽(10)处,热敏电阻由导热胶带固定在晶体炉炉体(2)的前端面(11)处。

2.如权利要求1所述的一种可常温控温的晶体炉装置,其特征在于,所述的晶体炉盖板(1)、晶体炉炉体(2)和散热底座(4)由紫铜材料加工而成,加工成型后材料表面镀银。

3.如权利要求1或2所述的一种可常温控温的晶体炉装置,其特征在于,所述的保温罩(9)由聚芳砜材料加工而成。

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