[实用新型]LOFT建筑有效
申请号: | 201720034431.9 | 申请日: | 2017-01-11 |
公开(公告)号: | CN206477620U | 公开(公告)日: | 2017-09-08 |
发明(设计)人: | 姜天;朱清华;李卓;周其文;陈希;王鑫;玉竹 | 申请(专利权)人: | 上海尤安建筑设计股份有限公司 |
主分类号: | E04H1/04 | 分类号: | E04H1/04 |
代理公司: | 北京挺立专利事务所(普通合伙)11265 | 代理人: | 倪钜芳 |
地址: | 200082 上海市*** | 国省代码: | 上海;31 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | loft 建筑 | ||
1.一种LOFT建筑,包括本体,所述本体具有第一结构层,第二结构层与第三结构层,
所述第一结构层具有第一上升地板与第一下沉地板,所述第一上升地板与第一下沉地板间设置第一过渡结构;
所述第二结构层具有第二下沉地板与第二上升地板,所述第二下沉地板与第二上升地板间设置第二过渡结构;
所述第三结构层具有第三上升地板与第三下沉地板,所述第三上升地板与第三下沉地板间设置第三过渡结构;
所述第一上升地板与第二下沉地板的间距为4.2m,所述第一下沉地板与第二上升地板的间距为4.8m,所述第二下沉地板与第三上升地板的间距为4.8m,所述第二上升地板与第三下沉地板的间距为4.2m,其特征在于,
所述第一下沉地板与第二上升地板间设置第一夹层地板,所述第一夹层地板与第一下沉地板的间距为2.45m,所述第一夹层地板与第二上升地板的间距为2.35m;
所述第二下沉地板与第三上升地板间设置第二夹层地板,所述第二夹层地板与第二下沉地板的间距为2.45m,所述第二夹层地板与第三上升地板的间距为2.35m。
2.根据权利要求1所述的LOFT建筑,其特征在于:所述建筑的外立面采用折形外立面。
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